本發明的MRI梯度線圈組件加工方法中，MRI梯度線圈組件的支撐組件置于主線圈和屏蔽線圈之間，其具有固定無源勻場條及其他功能性模塊作用，由于采用了具有導向功能的工裝夾具來向主線圈上安裝支撐組件，從而保證支撐組件的安裝精度，同時也保證多個產品之間質量和性能的一致性。

技術領域

本發明涉及磁共振成像(MRI)技術領域，特別涉及用于設置在磁共振成像(MRI)系統的梯度線圈組件的主線圈和屏蔽線圈之間的支撐結構以及準確定位的安裝方法。

背景技術

磁共振成像(MRI)是一種主要的醫學成像技術。MRI能產生各軟組織的詳細圖像，如腦、肌肉、及腎臟。利用組織中含有的化合物，如水分和脂肪，其特有的性質來生成圖像。在一個強力磁場影響之下，大量擁有核自旋角動量的原子，如水分、脂肪中所含之氫質子，此氫質子的總核磁矩矢量和會產生一個與上述磁場成一直線對準的凈磁矩。凈磁矩會進一步進動于一個與磁場正比的確定頻率。經由無線射頻沖脈激勵之后，弛豫時間可提供一個可檢測之信號。一般來講，MRI檢查基于主磁場、射頻RF磁場和時變梯度場之間的相互作用，其中旋磁材料在感興趣的對象(諸如患者)內具有核自旋。某些旋磁材料(諸如水分子中的氫核)具有響應于外部磁場的特征行為。可通過射頻磁場來產生可被檢測、處理并用于重建可用圖像的RF信號來影響這些核的自旋的進動。

主磁場是MRI使用磁體產生的強大、均勻的靜磁場。梯度線圈組件包括x、y和z三個方向梯度線圈的主線圈。梯度線圈組件在電流施加到各個線圈時產生較小幅度的空間上變化的磁場。為了防止渦流，梯度線圈組件還包括有源屏蔽件以防止渦流，還包括用于實現均勻磁性主場的無源勻場元件設置在梯度線圈和屏蔽線圈之間。

目前，現有技術中，梯度線圈組件制造包括三個步驟，1)制造包括x、y和z梯度線圈的內圓柱形模具，2)制造模制半徑比內圓柱形模具大、包括有源屏蔽線圈的外圓柱形模具，3)將外圓柱形模具施加在內圓柱形模具上，并且將用于給無源勻場條提供托槽的無源勻場條工具設置在內圓柱形模具和外圓柱形模具之間的環形空間中后，鑄造內圓柱形模具和外圓柱形模具之間的環形空間。

無源勻場條是保證MRI梯度磁場的重要結構，目前對無源勻場條安裝的研究主要集中在提供支撐結構置，其置于內圓柱形模具和外圓柱形模具之間的環形空間內提供初步的安裝定位及其他的結構的安裝基準。該環形空間非常狹窄，支撐結構在置入環形空間內很難保證置入的位置無源勻場條均勻性，這就使得MRI設備在生產過程中質量的波動，產品性能的一致性無法得到保證，如果提高MRI線圈組件磁場均勻性和產品性能一致性是亟待解決的問題。

發明內容

本發明的目的是提高MRI梯度線圈組件產品性能一致性。

一種提高MRI梯度線圈組件產品性能的加工方法，

固定圓柱形芯棒作為內殼，將主線圈設置在芯棒的外側殼表面上；

芯棒具有中心軸線，將多個支撐組件預定位后再以沿所述軸線方向引入并設置在主線圈外側；

每個支撐組件的支架上下表面之間設有沿內殼軸向方向延伸的第一槽，將無源勻場條推入第一槽，

將屏蔽線圈設置在支撐組件外側，屏蔽線圈外側設置圓柱形的外殼。

預定位為將支撐組件設置在導向單元上，由導向單元將支撐組件沿所述軸線方式引入并設置在主線圈外側。

支撐組件包括支架，支架上表面和下表面之間設有容納無源勻場條的第一槽，支架上表面設有用于容納間距板的第二槽，支架下表面為支撐底板的底面，支撐底板為圓弧形并與主線圈外側形狀相適應。

導向單元包括可動件、支座和導軌，可動件通過至少一個支座與導軌接觸并沿導軌運動，導軌沿芯棒軸線方向架設，可動件的上表面與支撐底板弧形相適應并與主線圈外側平齊。