[發(fā)明專利]薄膜處理設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010078813.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112080807B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-09-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·隆金;H·基茨勒;R·內(nèi)夫;S·濟(jì)凱利;P·曹納;P·艾格納 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 奧若泰克股份有限公司;布斯-SMS-勘茲勒股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | D01D1/02 | 分類號(hào): | D01D1/02 |
| 代理公司: | 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;于高瞻 |
| 地址: | 奧地利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 處理 設(shè)備 | ||
1.一種用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其包括:
加工殼體(12),其以與水平成至多20°的傾斜度定向,具有可加熱和/或可冷卻的殼體外殼(14),所述殼體外殼(14)圍繞旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的殼體內(nèi)部(16),所述殼體內(nèi)部(16)沿軸向方向延伸并形成材料處理空間(160),
入口噴嘴(20),其布置在所述加工殼體(12)的入口區(qū)域(18)中,用以將待處理的材料引入到所述材料處理空間(160)中,
出口噴嘴(24),其布置在所述加工殼體(12)的出口區(qū)域(22)中,用以從所述材料處理空間(160)排出經(jīng)處理的材料,以及
可驅(qū)動(dòng)的轉(zhuǎn)子軸(44),其布置在所述材料處理空間(160)中并且同軸地延伸,用于在所述殼體外殼的內(nèi)表面(15)上產(chǎn)生材料膜并且用于沿著從入口區(qū)域(18)經(jīng)過(guò)加工區(qū)域(25)到出口區(qū)域(22)的方向輸送材料,其中所述轉(zhuǎn)子軸(44)包括中央的轉(zhuǎn)子軸主體(50)和布置在所述轉(zhuǎn)子軸主體(50)的圓周上的拂掃器元件(43),所述拂掃器元件(43)的徑向最外端與所述殼體外殼的內(nèi)表面(15)有間距,其中所述拂掃器元件(43)在轉(zhuǎn)子軸(44)的圓周上以軸向延展的多排葉片布置,
其特征在于,所述轉(zhuǎn)子軸(44)包括布置在所述轉(zhuǎn)子軸主體(50)上的至少一個(gè)提升元件(56),所述提升元件被設(shè)計(jì)為使得在所述轉(zhuǎn)子軸(44)的旋轉(zhuǎn)期間朝向所述轉(zhuǎn)子軸主體(50)產(chǎn)生提升力,并且其中所述提升元件(56)在旋轉(zhuǎn)方向上具有平坦的迎流部分(62),所述迎流部分(62)具有前導(dǎo)端(64),該端與所述迎流部分(62)中跟在前導(dǎo)端后面的部位(66)相比布置在距所述殼體外殼的內(nèi)表面(15)更遠(yuǎn)的距離處,從而在所述迎流部分(62)與殼體的內(nèi)表面(15)之間形成有在與旋轉(zhuǎn)方向相反的方向上變窄的間隙(68)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,所述間隙(68)是連續(xù)變窄的間隙。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,所述迎流部分(62)覆蓋所述轉(zhuǎn)子軸主體(50)的圓周的角度范圍β1為至少10°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,至少一部分提升元件(56)各自由拂掃器元件(43)形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,所述提升元件(56)包括至少近似斜頂形狀的腹板(560),所述腹板(560)的脊(58)至少近乎與所述轉(zhuǎn)子軸(44)的軸向方向平行地延展。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,所述提升元件(56)在其徑向外側(cè)上具有至少一個(gè)螺旋延展的輸送翅片(70)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,所述腹板(560)在其徑向外側(cè)上具有至少一個(gè)螺旋延展的輸送翅片(70)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,至少一部分提升元件(56)布置在居中地位于支撐所述轉(zhuǎn)子軸(44)的旋轉(zhuǎn)軸承之間的部位中。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,至少一部分提升元件(56)布置在加工區(qū)域(25)中。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,至少一部分提升元件(56)在加工區(qū)域(25)中相對(duì)于彼此以螺旋狀偏移地布置在轉(zhuǎn)子軸主體(50)上。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于處理粘性材料的薄膜處理設(shè)備,其特征在于,在所述殼體外殼的內(nèi)表面(15)與所述轉(zhuǎn)子軸主體(50)之間布置有至少近乎完全圍繞轉(zhuǎn)子軸主體的同心的保護(hù)性殼(76),所述保護(hù)性殼(76)在入口區(qū)域(18)中形成。
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