[發明專利]一種自清潔人工晶狀體及其制備方法在審
| 申請號： | 202010010030.6 | 申請日： | 2020-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN111110397A | 公開（公告）日： | 2020-05-08 |
| 發明（設計）人： | 謝曦;陳偉蓉;劉冬;吳倩妮 | 申請（專利權）人： | 中山大學中山眼科中心 |
| 主分類號： | A61F2/16 | 分類號： | A61F2/16;A61L27/34;A61L27/50 |
| 代理公司： | 廣州新諾專利商標事務所有限公司 44100 | 代理人： | 曹愛紅 |
| 地址： | 510060 *** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 清潔 人工 晶狀體 及其 制備 方法 | ||
1.一種自清潔人工晶狀體的制備方法，其特征在于，其具體步驟是：
(1)用無菌雙蒸水沖洗人工晶狀體材料表面，氮氣流吹干；
(2)利用等離子體清洗儀的等離子束對人工晶狀體材料表面進行改性，通入O2形成氧離子束對人工晶狀體表面沖擊產生自由基，使人工晶狀體表面形成一定凸起的微納結構；
(3)利用化學氣象沉積法將等離子束處理后的人工晶狀體材料表面接枝聚二甲基硅氧烷(PDMS)分子鏈；
(4)將接枝后的自清潔人工晶狀體進行環氧乙烷滅菌封裝。
2.根據權利要求1所述的自清潔人工晶狀體的制備方法，其特征在于：所述人工晶狀體材料為疏水性丙烯酸酯或親水性丙烯酸酯或硅凝膠水凝膠中的一種。
3.根據權利要求2所述的自清潔人工晶狀體的制備方法，其特征在于：所述人工晶狀體材料為疏水性丙烯酸酯。
4.根據權利要求1所述的自清潔人工晶狀體的制備方法，其特征在于：上述步驟(2)中人工晶狀體表面凸起的微納結構高度約為1-20nm。
5.根據權利要求1所述的自清潔人工晶狀體的制備方法，其特征在于：上述步驟(2)中等離子體清洗儀的功率為60W，清洗時間為10s。
6.根據權利要求1所述的自清潔人工晶狀體的制備方法，其特征在于：所述聚二甲基硅氧烷(PDMS)的分子量為3000-10000g/mol。
7.根據權利要求6所述的自清潔人工晶狀體的制備方法，其特征在于：所述聚二甲基硅氧烷(PDMS)末端基團包括但不限于氨基、羥基。
8.根據權利要求1所述的自清潔人工晶狀體的制備方法，其特征在于：上述步驟(3)中，所述人工晶狀體表面接枝聚二甲基硅氧烷(PDMS)的反應溫度為80-100℃，反應時間24-72小時。
9.根據權利要求7所述的自清潔人工晶狀體的制備方法，其特征在于：所述人工晶狀體表面接枝率為20％-70％。
10.一種根據權利要求1至8任一項所述的自清潔人工晶狀體的制備方法制得的人工晶狀體。
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