[發明專利]液晶取向劑、其制造方法、液晶取向膜和液晶表示元件在審
| 申請號: | 201980055005.5 | 申請日: | 2019-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN112602013A | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發明(設計)人: | 名木達哉;杉山崇明;福田一平;橋本淳;石川和典 | 申請(專利權)人: | 日產化學株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337;C08G73/14 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶 取向 制造 方法 表示 元件 | ||
1.一種液晶取向劑,其特征在于,含有聚酰亞胺,所述聚酰亞胺為由含有下述式(1)所示的四羧酸二酐或其衍生物的四羧酸成分、與含有下述式(3)所示的第1二胺和下述式(4)所示的第2二胺的二胺成分的縮聚反應得到的聚酰亞胺前體的酰亞胺化物,
其中,X1為下述式(X1-1)或(X1-2)所示的結構,
其中,R3~R12各自獨立地為氫原子、鹵素原子、碳數1~6的烷基、碳數2~6的烯基、碳數2~6的炔基、含有氟原子的碳數1~6的1價的有機基團、或苯基,R3~R6中的至少一者為上述定義中的氫原子以外的基團,
其中,A1為碳數2~10的亞烷基、或將所述亞烷基所具有的-CH2-中的至少一者在不連續的條件下用-O-或-S-置換而成的基團,A2為鹵素原子、羥基、氨基、巰基、硝基、磷酸基、或碳數1~20的1價的有機基團,a為0~4的整數,存在有多個A2的情況下,A2任選相同或不同,b和c各自獨立地為1或2的整數,d為0或1的整數,
2.根據權利要求1所述的液晶取向劑,其中,下述式(1)中的X1為選自下式(X1-1-1)~(X1-1-5)中的至少1種,
3.根據權利要求1或2所述的液晶取向劑,其中,下述式(3)所示的第1二胺為選自下式(3-1)~(3-12)中的至少1種二胺,
4.根據權利要求1~3中任一項所述的液晶取向劑,其中,下述式(4)所示的第1二胺為選自下式(4-1)~(4-3)中的至少1種二胺,
5.根據權利要求1~4中任一項所述的液晶取向劑,其中,含有相對于所述二胺成分為40~90摩爾%的所述式(3)所示的第1二胺。
6.根據權利要求1~5中任一項所述的液晶取向劑,其中,含有相對于所述二胺成分為10~40摩爾%的所述式(4)所示的第2二胺。
7.根據權利要求1~6中任一項所述的液晶取向劑,其中,所述四羧酸成分還包含選自下述式(2)所示的四羧酸二酐和其衍生物中的至少1種,
其中,X2為選自下述式(X2-1)~(X2-6)中的結構,
8.根據權利要求7所述的液晶取向劑,其中,含有相對于四羧酸成分為1~30摩爾%的所述式(2)所示的四羧酸二酐或其衍生物。
9.一種液晶取向膜,其是使用權利要求1~8中任一項所述的液晶取向劑而得到的。
10.一種液晶表示元件,其具備權利要求9所述的液晶取向膜。
11.一種液晶取向膜的制造方法,其具備下述的工序(A)、工序(B)、工序(C)和工序(D),
工序(A):在基板上涂布權利要求1~8中任一項所述的液晶取向劑的工序;
工序(B):將涂布后的液晶取向劑在實質上不進行熱酰亞胺化的條件下加熱而得到膜的工序;
工序(C):對工序(B)中得到的膜照射偏振紫外線的工序;
工序(D):將工序(C)中得到的膜在100℃以上、且高于工序(B)的溫度下進行燒成的工序。
12.根據權利要求11所述的液晶取向膜的制造方法,其中,所述工序(B)中,在50℃~150℃下進行加熱。
13.根據權利要求11或12所述的液晶取向膜的制造方法,其中,所述工序(D)中,將所述膜在150~300℃下進行燒成。
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