7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜設(shè)備上的抽拉式離子源機構(gòu)，其特征在于，還包括設(shè)于離子源安裝架(9)側(cè)邊的傳動輥(8)以及冷卻輥機構(gòu)，所述冷卻輥機構(gòu)包括冷卻輥(1)、驅(qū)動冷卻輥(1)轉(zhuǎn)動的驅(qū)動機構(gòu)(2)以及冷卻結(jié)構(gòu)，所述冷卻結(jié)構(gòu)包括設(shè)于所述冷卻輥(1)內(nèi)的內(nèi)膽(3)、鏈接在冷卻輥(1)一側(cè)且與冷卻輥(1)內(nèi)部聯(lián)通的冷卻液管道(31)，所述冷卻液管道(31)上設(shè)有進水口(32)和出水口(33)，且所述內(nèi)膽(3)從冷卻輥(1)內(nèi)沿冷卻液管道(31)延伸至與出水口(33)相對，且所述內(nèi)膽(3)內(nèi)部為出水通道(301)、所述內(nèi)膽(3)外周與冷卻輥(1)內(nèi)壁之間的間隙形成與冷卻液管道(31)聯(lián)通的冷卻通道(311)，且所述內(nèi)膽(3)上設(shè)有聯(lián)通所述冷卻通道(311)與出水通道(301)的通道口(302)。