本實(shí)用新型提供了硅片清洗設(shè)備及限位結(jié)構(gòu)。該硅片清洗設(shè)備包括：清洗設(shè)備本體；限位結(jié)構(gòu)，設(shè)于清洗設(shè)備本體上，并能夠在第一位置和第二位置之間切換；其中，限位結(jié)構(gòu)在第一位置時避讓硅片載具，以使得硅片載具移入或移出硅片清洗設(shè)備；限位結(jié)構(gòu)在第二位置時止擋硅片載具，以限制移入硅片清洗設(shè)備的硅片載具移動。本實(shí)用新型能夠在硅片清洗處理過程中有效避免硅片漂浮，從而提高硅片的質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及太陽能電池制備的技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種硅片清洗設(shè)備以及限位結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

硅片是用于制備太陽能電池的重要元件，其在生產(chǎn)流程中需要進(jìn)行多道工序處理。在眾多處理工序中，硅片表面的清洗工序?qū)μ柲茈姵氐男再|(zhì)有著重要影響。硅片清洗設(shè)備用于將硅片浸入到酸液池或堿液池中發(fā)生一系列化學(xué)反應(yīng)，以進(jìn)行清洗。

相關(guān)技術(shù)中，硅片在硅片清洗設(shè)備中受到液體流動產(chǎn)生的沖擊，而容易發(fā)生漂浮或浮動，漂浮或浮動的問題導(dǎo)致了硅片表面的性質(zhì)不夠均一，影響硅片的質(zhì)量。

因此，相關(guān)技術(shù)中缺少一種能夠阻止或避免硅片在硅片清洗設(shè)備中漂浮、浮動的技術(shù)方案。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型旨在解決上述技術(shù)問題的至少之一。

為此，本實(shí)用新型的第一目的在于提供一種硅片清洗設(shè)備。

本實(shí)用新型的第二目的在于提供一種限位結(jié)構(gòu)。

為實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的第一目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例提供了一種硅片清洗設(shè)備，包括：清洗設(shè)備本體；限位結(jié)構(gòu)，設(shè)于清洗設(shè)備本體上，并能夠在第一位置和第二位置之間切換；其中，限位結(jié)構(gòu)在第一位置時避讓硅片載具，以使得硅片載具移入或移出硅片清洗設(shè)備；限位結(jié)構(gòu)在第二位置時止擋硅片載具，以限制移入硅片清洗設(shè)備的硅片載具移動。

本實(shí)施例在硅片清洗設(shè)備上設(shè)置了限位結(jié)構(gòu)。限位結(jié)構(gòu)可通過旋轉(zhuǎn)、翻轉(zhuǎn)、位移等運(yùn)動方式中的一種或幾種的結(jié)合，而在第一位置和第二位置之間切換。其中，限位結(jié)構(gòu)在第一位置時，其避讓硅片載具，從而保證硅片載具以及其中的硅片能夠被順利地送入硅片清洗設(shè)備或由硅片清洗設(shè)備中取出。限位結(jié)構(gòu)在第二位置時，其止擋硅片載具。由此，限位結(jié)構(gòu)限制了進(jìn)入硅片清洗設(shè)備的硅片載具在液體的沖擊下或在化學(xué)反應(yīng)的影響下而前后左右地移動或漂浮。

另外，本實(shí)用新型提供的上述實(shí)施例提供的技術(shù)方案還可以具有如下附加技術(shù)特征：

上述技術(shù)方案中，清洗設(shè)備本體包括：槽體，能夠容納硅片載具，并具有開口；轉(zhuǎn)軸，設(shè)于槽體上；蓋體，能夠圍繞轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，以避讓或遮擋開口；其中，限位結(jié)構(gòu)設(shè)于轉(zhuǎn)軸上，并通過圍繞轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，在第一位置和第二位置之間切換。

本實(shí)施例中，由于第一限位結(jié)構(gòu)設(shè)置在了轉(zhuǎn)軸上，因此，第一限位結(jié)構(gòu)僅需要圍繞轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，即可便捷地實(shí)現(xiàn)在第一位置和第二位置之間的切換。由此，本實(shí)施例不需要設(shè)置額外的連接件來實(shí)現(xiàn)第一限位結(jié)構(gòu)的安裝固定。

上述任一技術(shù)方案中，蓋體在圍繞轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動時，帶動轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)軸通過旋轉(zhuǎn)，帶動限位結(jié)構(gòu)圍繞轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。

本實(shí)施例可使得第一限位結(jié)構(gòu)跟隨蓋體同步發(fā)生狀態(tài)或位置的改變，蓋體打開即可實(shí)現(xiàn)第一限位結(jié)構(gòu)對硅片載具的避讓，蓋體閉合即可實(shí)現(xiàn)第一限位結(jié)構(gòu)對硅片載具的止擋，由此使得硅片清洗設(shè)備更加便于操作。

上述任一技術(shù)方案中，清洗設(shè)備本體包括：槽體，能夠容納硅片載具，并具有開口；蓋體，能夠避讓或遮擋開口；其中，限位結(jié)構(gòu)設(shè)于蓋體的內(nèi)壁上，以使得蓋體避讓開口時，限位結(jié)構(gòu)切換至第一位置，并使得蓋體遮擋開口時，限位結(jié)構(gòu)切換至第二位置。

本實(shí)施例的目的之一在于，通過蓋體打開即可實(shí)現(xiàn)第一限位結(jié)構(gòu)對硅片載具的避讓，通過蓋體閉合即可實(shí)現(xiàn)第一限位結(jié)構(gòu)對硅片載具的止擋，由此使得硅片清洗設(shè)備更加便于操作。此外，本實(shí)施例的另一目的在于，簡化第二限位結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)，并保證第二限位結(jié)構(gòu)的止擋效果。