[實用新型]評價晶片清洗效率的實驗裝置有效
| 申請號： | 201921260992.6 | 申請日： | 2019-08-06 |
| 公開（公告）號： | CN211206291U | 公開（公告）日： | 2020-08-07 |
| 發明（設計）人： | 劉子龍;胡懷志;冉運;朱順全 | 申請（專利權）人： | 武漢鼎澤新材料技術有限公司;湖北鼎匯微電子材料有限公司;湖北鼎龍控股股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/94 | 分類號： | G01N21/94;G01Q60/24;H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 430057 湖北省武漢市經*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 評價 晶片 清洗 效率 實驗 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種評價晶片清洗效率的實驗裝置，其特征在于，包括：
支架，設置在所述支架上的真空吸附晶片樣品并帶動晶片樣品旋轉的真空旋轉裝置，以及設置在所述支架上的將粘染物溶液或清洗液注射至晶片樣品表面的注射裝置。
2.如權利要求1所述的評價晶片清洗效率的實驗裝置，其特征在于，所述真空旋轉裝置包括表面開有真空槽的真空吸盤、控制旋轉電機帶動真空吸盤轉動的旋轉控制器、以及經真空氣管與真空槽底部連通的真空泵。
3.如權利要求2所述的評價晶片清洗效率的實驗裝置，其特征在于，所述真空吸盤位于屏蔽罩中，所述屏蔽罩頂面設有玻璃罩。
4.如權利要求1所述的評價晶片清洗效率的實驗裝置，其特征在于，所述注射裝置包括注射器以及帶動注射器的活塞桿運動的加壓推動裝置,所述注射器的針頭為非金屬材料。
5.如權利要求4所述的評價晶片清洗效率的實驗裝置，其特征在于，所述加壓推動裝置為連接有步進控制器的絲桿式步進電機或伸縮式氣缸。
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