[實用新型]顯示面板和顯示裝置有效
| 申請號: | 201920971318.2 | 申請日: | 2019-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN210119649U | 公開(公告)日: | 2020-02-28 |
| 發明(設計)人: | 劉國冬 | 申請(專利權)人: | 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1345 |
| 代理公司: | 北京市立方律師事務所 11330 | 代理人: | 張筱寧;宋海斌 |
| 地址: | 230012 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:彩膜基板、陣列基板、電荷分布調整單元和導電粘合層;
所述陣列基板包括第一導線;
所述彩膜基板包括像素電極層,所述彩膜基板和所述陣列基板對盒設置;
所述導電粘合層沿所述彩膜基板和所述陣列基板重疊部位的周向,設置于所述彩膜基板和所述陣列基板之間,所述彩膜基板和所述陣列基板至少通過所述導電粘合層電連接,所述導電粘合層與所述彩膜基板的像素電極層電連接;
所述電荷分布調整單元包括設置于所述陣列基板上的第一導電圖形,所述第一導電圖形分別與所述第一導線和所述導電粘合層電連接。
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,包括下述至少一項:
所述陣列基板包括柵極金屬層,所述柵極金屬層包括柵極和所述第一導線,所述陣列基板還包括電路驅動單元,所述電路驅動單元分別與所述第一導線、所述柵極電連接;
所述電荷分布調整單元還包括第二導電圖形,所述第二導電圖形設置于所述彩膜基板上,與所述彩膜基板的像素電極層電連接,所述導電粘合層通過所述第二導電圖形與所述彩膜基板的像素電極層電連接。
3.根據權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括端子區域和顯示區域,所述第二導電圖形沿所述顯示區域的邊緣設置,并至少部分與所述導電粘合層電連接;
所述第二導電圖形至少部分設置于所述顯示區域鄰近于所述端子區域一側的彩膜基板上,和/或,所述顯示區域遠離所述端子區域一側的彩膜基板上;或者,所述第二導電圖形沿所述顯示區域的周向環狀排布。
4.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述陣列基板還包括絕緣單元;
所述絕緣單元的至少部分,設置于所述陣列基板的第一導線臨近于所述彩膜基板的一側,所述絕緣單元對應所述陣列基板的第一導線處開設有過孔,所述第一導電圖形填充于所述過孔中并與所述第一導線電連接。
5.根據權利要求4所述的顯示面板,其特征在于,包括下述至少一項:
所述過孔的直徑為5微米~20微米;
每個所述第一導電圖形和與之對應的至少一個所述過孔為一個組,所述顯示面板包括多個組,所述多個組中的至少部分,在臨近于所述顯示面板的邊緣的位置沿所述顯示面板的周向設置。
6.根據權利要求1或2所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括端子區域和顯示區域,所述第一導電圖形的數量為至少一個;
以及,所述顯示面板包括下述至少一項:
所述第一導電圖形設置于所述端子區域和顯示區域銜接的位置,所述第一導電圖形的一端在所述端子區域中與所述第一導線電連接,另一端與所述顯示區域中的彩膜基板和陣列基板之間的導電粘合層電連接;
所述顯示區域包括有效顯示子區域,和沿所述有效顯示子區域的邊緣設置的邊框子區域;所述第一導電圖形設置于所述邊框子區域中,所述第一導電圖形的一端與所述邊框子區域中的所述第一導線電連接,另一端與所述邊框子區域中的彩膜基板和陣列基板之間的導電粘合層電連接。
7.根據權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括端子區域和顯示區域;
所述電荷分布調整單元的至少部分,沿所述顯示區域的邊緣指向中間部位的第一方向延伸,并嵌入所述顯示區域的中的彩膜基板和陣列基板之間的導電粘合層中。
8.根據權利要求7所述的顯示面板,其特征在于,包括下述至少一項:
所述電荷分布調整單元沿所述第一方向嵌入所述導電粘合層的深度的范圍包括20微米~60微米;
所述第一導電圖形的寬度范圍為200微米~1000微米;
所述第二導電圖形的寬度范圍為30微米~100微米;
所述第一導電圖形和/或第二導電圖形的材質為氧化銦錫或金屬。
9.根據權利要求1至5任一項所述的顯示面板,其特征在于,所述電荷分布調整單元的至少部分相對于所述顯示面板均布地設置。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括:如權利要求1至9中任一項所述的顯示面板。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司,未經合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.17sss.com.cn/pat/books/201920971318.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種義齒加工臺上的清理裝置
- 下一篇:一種碳化硅生長設備的兩用真空系統





