[實(shí)用新型]用于改善黑硅制絨氣流印的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920949966.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210136849U | 公開(公告)日: | 2020-03-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 樊選勝;宛正;繆云展;曹磊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 阜寧蘇民綠色能源科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
| 地址: | 224400 江蘇省鹽*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 改善 黑硅制絨 氣流 裝置 | ||
本實(shí)用新型公開了一種用于改善黑硅制絨氣流印的裝置,儲(chǔ)液槽內(nèi)設(shè)有浸泡槽,浸泡槽底部鋪設(shè)有供液管,供液管的管壁上開設(shè)有若干出液孔,浸泡槽內(nèi)設(shè)置兩組面對(duì)面的支撐柱,支撐柱上設(shè)置阻流板,所述阻流板的底面為弧形凸面,阻流板頂面設(shè)有置物籃,用于插放待挖孔的硅片。阻流板有效阻擋了槽內(nèi)氣泡和液體流動(dòng),使得阻流板以上的硅片在浸泡挖孔時(shí)不受影響,有效避免了挖孔不均勻的問題。阻流板的底面為弧形凸面,能夠更好的進(jìn)行導(dǎo)流,出液孔處出來的液體和氣泡更好的向阻流板的兩邊流出。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于太陽能光伏電池制造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于改善黑硅制絨氣流印的裝置。
背景技術(shù)
新能源作為人類應(yīng)對(duì)傳統(tǒng)能源枯竭的應(yīng)對(duì)方式,而太陽能作為新能源的一員獲得越來越多的關(guān)注。與傳統(tǒng)能源相比,太陽能成本仍偏高。因此,提高太陽能電池轉(zhuǎn)化效率降低生產(chǎn)成本是整個(gè)太陽能行業(yè)的迫切需求。在硅片端,金剛線切割多晶硅片因其巨大的降本空間,目前已占據(jù)硅片切割的主導(dǎo)地位,因金剛線切割損傷層與砂漿切割損傷層的巨大差異,電池端生產(chǎn)工藝也需作出相應(yīng)的改變。因此,為了匹配硅片切割帶來的差異性,濕法槽式黑硅工藝因其成本優(yōu)勢(shì)及與金剛線切割較好的匹配性,逐漸替代了鏈?zhǔn)街平q,已取得主導(dǎo)地位。
在現(xiàn)行黑硅制絨工藝中,有一個(gè)對(duì)硅片進(jìn)行挖孔處理的步驟,主要藥劑為HF、雙氧水、添加劑A和添加劑B。在挖孔的過程中,由于循環(huán)的影響和H2O2容易分解產(chǎn)生氣泡都會(huì)對(duì)挖孔進(jìn)行影響。導(dǎo)致挖孔不均勻,從而形成類似氣流通過的“氣流印”。對(duì)于此問題,在業(yè)內(nèi)一直是很一個(gè)難以解決的難題。它直接影響到太陽能電池片的外觀,如果嚴(yán)重時(shí),還會(huì)直接影響到太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型提供了一種用于改善黑硅制絨氣流印的裝置,解決了對(duì)硅片進(jìn)行挖孔處理時(shí)產(chǎn)生氣流印挖孔不均勻的技術(shù)問題。
為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種用于改善黑硅制絨氣流印的裝置,包括儲(chǔ)液槽,用于儲(chǔ)放挖孔處理液,其特征在于,所述儲(chǔ)液槽內(nèi)設(shè)有浸泡槽,所述儲(chǔ)液槽高度大于浸泡槽高度;所述浸泡槽底部鋪設(shè)有供液管,供液管的管壁上開設(shè)有若干出液孔;所述浸泡槽內(nèi)設(shè)置兩組面對(duì)面的支撐柱,支撐柱上設(shè)置阻流板;所述阻流板的底面為弧形凸面,所述阻流板頂面設(shè)有置物籃,用于插放待挖孔的硅片。
進(jìn)一步地,所述供液管的進(jìn)液口與水泵的出水端連接,水泵的進(jìn)水端與循環(huán)管連接,循環(huán)管的另一端口位于所述儲(chǔ)液槽內(nèi)。
進(jìn)一步地,所述浸泡槽固設(shè)在所述儲(chǔ)液槽底部。
進(jìn)一步地,所述支撐柱的側(cè)面上通過螺栓連接定位組件,定位組件能夠以螺栓為中心旋轉(zhuǎn),用于固定阻流板。起到了保證阻流板在進(jìn)行工藝時(shí)穩(wěn)定的作用。
進(jìn)一步地,所述定位組件包括定位板和卡塊,定位板通過螺栓與所述支撐柱的側(cè)面連接,定位板遠(yuǎn)離螺栓的一端固定連接卡塊。
進(jìn)一步地,所述卡塊底面設(shè)有若干凸點(diǎn)。起到了增加摩擦力、固定更穩(wěn)固的作用。
進(jìn)一步地,所述阻流板由PVDF制成。
進(jìn)一步地,所述置物籃的底部通過螺絲與所述阻流板連接。
本實(shí)用新型所達(dá)到的有益效果:從出液孔噴射的挖孔處理液會(huì)帶來槽內(nèi)氣泡和液體流動(dòng),儲(chǔ)液槽的支撐柱上設(shè)置阻流板,有效阻擋了槽內(nèi)氣泡和液體流動(dòng),使得阻流板以上的硅片在浸泡挖孔時(shí)不受影響,有效避免了挖孔不均勻的問題。阻流板的底面為弧形凸面,能夠更好的進(jìn)行導(dǎo)流,出液孔處出來的液體和氣泡更好的向阻流板的兩邊流出。定位組件的設(shè)計(jì),在方便阻流板置換的同時(shí)也使得阻流板更加平穩(wěn)性,更有利于硅片的挖孔工藝。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖;
圖2為本實(shí)用新型的俯視圖;
圖3為本實(shí)用新型定位組件的示意圖。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





