[發明專利]一種摻雜類石墨碳膜及其制備方法、工件有效
| 申請號： | 201910980090.8 | 申請日： | 2019-10-15 |
| 公開（公告）號： | CN110643943B | 公開（公告）日： | 2022-09-09 |
| 發明（設計）人： | 蔡海潮;薛玉君;賀江濤;李航;司東宏;葉軍;楊芳;劉春陽;馬喜強 | 申請（專利權）人： | 河南科技大學 |
| 主分類號： | C23C14/06 | 分類號： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119 | 代理人： | 胡云飛 |
| 地址： | 471003 河*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 摻雜 石墨 及其 制備 方法 工件 | ||
1.一種含摻雜類石墨碳膜的復合膜，其特征在于，所述復合膜是由摻雜類石墨碳膜和過渡層構成，所述摻雜類石墨碳膜是由類石墨碳膜和摻雜元素組成，所述摻雜元素為鑭元素和鈦元素；所述摻雜類石墨碳膜中鑭元素的質量百分比為6.5~14%，鈦元素的質量百分比為2~17%；
所述摻雜類石墨碳膜的制備方法為采用磁控濺射法向經過預處理的基體表面濺射沉積類石墨碳膜；
所述濺射沉積時的靶材包括鑭鈦合金靶和石墨靶；濺射時的工作壓強為0.4~1.6Pa，鑭鈦合金靶的濺射功率為10~50W，石墨靶的濺射功率為120~250W；濺射時鑭鈦合金靶和石墨靶共濺射，共濺射時間為120~150min；
所述過渡層為鑭鈦合金層，鑭鈦合金層是由以下質量百分比的組分組成：鑭5-50%，其余為鈦。
2.一種如權利要求1所述的含摻雜類石墨碳膜的復合膜的制備方法，其特征在于，采用磁控濺射法向經過預處理的基體表面濺射沉積摻雜類石墨碳膜；
所述濺射沉積時的靶材包括鑭鈦合金靶和石墨靶；濺射時的工作壓強為0.4~1.6Pa，鑭鈦合金靶的濺射功率為10~50W，石墨靶的濺射功率為120~250W；濺射時鑭鈦合金靶和石墨靶共濺射，共濺射時間為120~150min；
所述預處理的基體包括基體和設置在基體上的過渡層。
3.根據權利要求2所述的含摻雜類石墨碳膜的復合膜的制備方法，其特征在于，所述過渡層由磁控濺射法制得，磁控濺射時的工 作壓強為0.4~1.6Pa，所用靶材為鑭鈦合金靶，鑭鈦合金靶的濺射功率為10~50W，濺射時間為10~30min。
4.一種工件，其特征在于，包括工件基體，所述工件基體表面設有含摻雜類石墨碳膜的復合膜；所述復合膜為權利要求1所述的含摻雜類石墨碳膜的復合膜；所述摻雜類石墨碳膜的厚度為1.8~2.2μm；所述工件基體表面與摻雜類石墨碳膜之間的過渡層的厚度為0.8~1.2μm。
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