[發明專利]一種鍍銀工藝在審
| 申請號: | 201910284375.8 | 申請日: | 2019-04-09 |
| 公開(公告)號: | CN109853011A | 公開(公告)日: | 2019-06-07 |
| 發明(設計)人: | 何愛芝;云虹;閔宇霖;沈喜訓;丁會梅;丁榮軍;袁小菊 | 申請(專利權)人: | 江蘇澳光電子有限公司 |
| 主分類號: | C25D5/14 | 分類號: | C25D5/14;C25D3/12;C25D3/46 |
| 代理公司: | 北京輕創知識產權代理有限公司 11212 | 代理人: | 談杰 |
| 地址: | 224000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍銀工藝 鍍鎳 電解脫脂 厚度分布 致密性高 脫脂 超聲波 結合力 熱水洗 預鍍銀 烘干 鍍層 鍍銀 封孔 耐磨 色變 酸洗 微蝕 | ||
本發明公開了一種鍍銀工藝,包括如下步驟:(1)超聲波脫脂;(2)電解脫脂;(3)水洗;(4)微蝕;(5)酸洗;(6)水洗;(7)鍍鎳;(8)高溫鍍鎳;(9)水洗;(10)預鍍銀;(11)鍍銀;(12)水洗;(13)熱水洗;(14)封孔;(15)烘干。本發明的一種鍍銀工藝,工藝簡單操作,周期短、效率高,成品光亮耐磨、抗腐蝕性與抗色變能力都較強,且得到的鍍層厚度分布均勻、致密性高、結合力好。
技術領域
本發明涉及一種電鍍工藝,具體涉及一種接插件的鍍銀工藝。
背景技術
銀是銀白色的金屬,原子量為108,密度為10.5,銀的電化當量為4.025g/A.h,銀的標準電極電位為0.81V,銀鍍層具有良好的導電性和可焊性,易于拋光,具有很高的化學穩定性。
目前,鍍銀工藝主要應用在電接插件上,尤其是近年隨著電子技術的發展,鋁材因其價格便宜,重量輕,易于加工等優點目前被廣泛的應用在電子領域中,因此,鋁上鍍銀技術顯得尤為重要。
目前電觸頭最常見鍍銀工藝為電鍍銀,采用氰化物鍍液掛鍍的方式,存在以下問題:
(1)掛鍍適于單件小批量生產,生產效率低;
(2)受工藝及鍍前處理限制,鍍層結合力不可靠,在摩擦過程中導致鍍層脫落;
(3)電鍍銀的過程是在氰化物的電鍍液中進行的,氰化物有劇毒,易對人身造成傷害及對環境造成污染。
發明內容
發明目的:本發明針對現有技術中的不足,提出一種鍍銀工藝,工藝簡單操作,周期短、效率高,成品光亮耐磨、抗腐蝕性與抗色變能力都較強,且得到的鍍層厚度分布均勻、致密性高、結合力好。
技術方案:本發明所述的一種鍍銀工藝,包括如下步驟:
(1)超聲波脫脂;(2)電解脫脂;(3)水洗;(4)微蝕;(5)酸洗;(6)水洗;(7)鍍鎳;(8)高溫鍍鎳;(9)水洗;(10)預鍍銀;(11)鍍銀;(12)水洗;(13)熱水洗;(14)封孔;(15)烘干。
進一步的,步驟(1)中超聲波脫脂的電流大于0.2A,溫度為55-65℃,脫脂藥水濃度為40-60g/L。
進一步的,步驟(2)中電解脫脂的電流為25-35A,溫度為55-65℃,脫脂藥水濃度為40-60g/L。
進一步的,步驟(4)微蝕步驟中微蝕劑用量為60-180g/L,硫酸濃度1-3%,Cu2+:<15g/L。
進一步的,步驟(7)鍍鎳和步驟(8)高溫鍍鎳中電流10-20A,溫度55-65℃;材料濃度選擇:Ni2+:110-150g/L;氧化鎳:5-15G/L;硼酸:35-50G/L。
進一步的,步驟(10)預鍍銀中材料濃度選擇:KCN:1.8-3g/l游離氰化銀:75-112.5G/L;電流1-3A。
進一步的,步驟(11)鍍銀中材料濃度選擇:KCN:41-49g/l游離氰化銀:101-135G/L;溫度25-35℃;電流2-4A。
進一步的,步驟(13)熱水洗電流大于0.5A,溫度40-60℃。
進一步的,步驟(15)烘干溫度80-120℃。
有益效果:本發明的一種鍍銀工藝,工藝簡單操作,周期短、效率高,成品光亮耐磨、抗腐蝕性與抗色變能力都較強,且得到的鍍層厚度分布均勻、致密性高、結合力好。
具體實施方式
下面結合具體實施例對本發明作進一步說明:
實施例1
一種鍍銀工藝,包括如下步驟:
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