[發(fā)明專利]投影儀及投影儀的控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880019673.8 | 申請日: | 2018-03-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110463191B | 公開(公告)日: | 2022-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 市枝博行 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H04N5/74 | 分類號(hào): | H04N5/74;G03B21/14;G09G5/00;G09G5/36;G09G5/38 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 李慶澤;鄧毅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 投影儀 控制 方法 | ||
提供能夠減少將投射圖像投射到投射面的投射區(qū)域的使用者麻煩的技術(shù)。投影儀具有:投射部,其將投射圖像投射到投射面上;拍攝部,其拍攝投射面而生成拍攝圖像;檢測部,其根據(jù)拍攝圖像檢測配置在投射面上的裝卸自如的對象的位置;以及調(diào)整部,其根據(jù)對象的位置調(diào)整投射圖像在投射面上的投射位置。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及投影儀及投影儀的控制方法。
背景技術(shù)
在專利文獻(xiàn)1中,記載了對投射圖像的梯形畸變進(jìn)行校正的投影儀。在專利文獻(xiàn)1所記載的投影儀中,在接收到根據(jù)使用者的遙控器操作而發(fā)送的指示時(shí),檢測成為投射面的屏幕的框,以使投射圖像收斂于框(投射區(qū)域)中的方式執(zhí)行梯形畸變校正。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2006-60447號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
然而,考慮使用裝卸自如地配置在投射面上的對象(例如,帶磁鐵的部件)在投射面上設(shè)定投射圖像的投射區(qū)域。
在該情況下,專利文獻(xiàn)1所記載的投影儀的使用者每次使用對象在投射面上設(shè)定投射區(qū)域時(shí)都需要操作遙控器,比較麻煩。另外,在投射面與投影儀之間的位置關(guān)系發(fā)生變化的情況下,使用者也需要操作遙控器,比較麻煩。
本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的,其解決課題在于提供能夠減少將投射圖像投射到投射面的投射區(qū)域的使用者麻煩的技術(shù)。
用于解決課題的手段
本發(fā)明的投影儀的一個(gè)方式的特征在于,該投影儀具有:投射部,其將投射圖像投射到投射面上;拍攝部,其拍攝所述投射面而生成拍攝圖像;檢測部,其根據(jù)所述拍攝圖像檢測配置在所述投射面上的裝卸自如的對象的位置;以及調(diào)整部,其根據(jù)所述對象的位置調(diào)整所述投射圖像在所述投射面上的投射位置。
根據(jù)該方式,能夠根據(jù)配置在投射面上的裝卸自如的對象的位置,自動(dòng)地調(diào)整投射位置。因此,能夠減少將投射圖像投射到投射面的投射區(qū)域的使用者麻煩。
在上述投影儀的一個(gè)方式中,期望的是,所述檢測部還根據(jù)所述拍攝圖像檢測所述對象在所述拍攝圖像上的移動(dòng),在檢測出所述對象在所述拍攝圖像上的移動(dòng)的情況下,所述調(diào)整部調(diào)整所述投射位置。
如果投影儀或投射面的位置偏移,則投影儀與投射面之間的相對位置關(guān)系發(fā)生變化,在投射面中,投射圖像的投射位置偏移。另外,如果投影儀與投射面之間的相對位置關(guān)系發(fā)生變化,則對象在拍攝圖像上移動(dòng)。
根據(jù)該方式,在檢測出對象在拍攝圖像上的移動(dòng)的情況下,調(diào)整投射位置。因此,根據(jù)該方式,在投射面中投射位置偏移的情況下,能夠自動(dòng)地調(diào)整投射位置。
在上述投影儀的一個(gè)方式中,期望的是,所述檢測部檢測配置在所述投射面上的裝卸自如的多個(gè)對象的位置,所述調(diào)整部根據(jù)所述多個(gè)對象的位置決定所述投射圖像的投射范圍,以使所述投射圖像投射到所述投射范圍內(nèi)的方式調(diào)整所述投射位置。根據(jù)該方式,能夠?qū)⑼渡鋱D像投射到根據(jù)多個(gè)對象的位置而決定的投射范圍內(nèi)。
在上述投影儀的一個(gè)方式中,期望的是,所述調(diào)整部通過對變更所述投射位置的位置變更部的驅(qū)動(dòng)進(jìn)行控制,調(diào)整所述投射位置。根據(jù)該方式,能夠使用位置變更部調(diào)整投射位置。
在上述投影儀的一個(gè)方式中,期望的是,所述位置變更部通過變更所述投射圖像的投射方向變更所述投射位置。根據(jù)該方式,能夠變更投射圖像的投射方向而調(diào)整投射位置。
在上述投影儀的一個(gè)方式中,期望的是,所述投射部具有投射透鏡和使所述投射透鏡在與所述投射透鏡的光軸交叉的方向上移位的透鏡移位部,所述位置變更部是所述透鏡移位部。根據(jù)該方式,能夠使用透鏡移位部調(diào)整投射位置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于精工愛普生株式會(huì)社,未經(jīng)精工愛普生株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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