一種離型膜，包括基材層和離型層，所述離型層為有機(jī)硅離型劑層，所述離型層包括第一離型層和第二離型層，第一離型層的下表面與基材層的上表面貼合，第一離型層的上表面涂覆有DMPA層，DMPA層的上表面與第二離型層貼合。本實用新型將離型層設(shè)計為第一離型層和第二離型層，并在第一離型層和第二離型層之間設(shè)置DMPA層，一方面保證離型膜在膠帶或保護(hù)膜的模切過程中不會脫離、翹開，另一方面，當(dāng)需要剝離離型膜時，使用紫外光照射，DMPA吸收紫外光輻射能而形成自由基，從而引發(fā)有機(jī)硅離型劑再次反應(yīng)，離型力降低，易于剝離，避免膠帶或保護(hù)膜損壞。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種用于保護(hù)膠材的膜材料，具體涉及一種離型膜。

背景技術(shù)

離型膜是指表面具有分離性的薄膜，離型膜與特定的材料在有限的條件下接觸后不具有粘性，或輕微的粘性，通常情況下為了增加薄膜的離型力，會將塑料薄膜做等離子處理，或涂氟處理，或?qū)⒐桦x型劑涂于薄膜材質(zhì)的表層上，如PET、PE、OPP等,讓它對于各種不同的有機(jī)壓感膠可以表現(xiàn)出極輕且穩(wěn)定的離型力。

常規(guī)的膠帶及保護(hù)膜，產(chǎn)品結(jié)構(gòu)中均需要用到離型膜。在膠帶或者保護(hù)膜實際的使用過程中，離型膜對膠帶或保護(hù)膜產(chǎn)品起著保護(hù)作用，同時也使膠帶或者保護(hù)膜更便于加工和使用。隨著手機(jī)零部件的日益精細(xì)化、集成化，膠帶及保護(hù)膜的模切精度要求也越來越高，這就要求離型膜的離型力要足夠低，同時不能有明顯的剝離靜電，才能避免在離型膜剝離的過程中，損壞模切后極精細(xì)的膠帶或者保護(hù)膜。但離型膜的離型力過低，在模切過程中又會導(dǎo)致離型膜脫離、翹開等，無法對產(chǎn)品起到有效保護(hù)的作用。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供一種離型膜，該離型膜在模切時，可確保一定的剝離強度，避免離型膜脫離、翹開。在需要剝離時，通過紫外照射，使離型力降低，從而易于剝離。

本實用新型采用的技術(shù)方案如下：

一種離型膜，包括基材層和離型層，所述離型層為有機(jī)硅離型劑層，所述離型層包括第一離型層和第二離型層，第一離型層的下表面與基材層的上表面貼合，第一離型層的上表面涂覆有DMPA層，DMPA層的上表面與第二離型層貼合。

DMPA為651光引發(fā)劑的簡稱，又稱為苯偶酰雙甲醚，對光敏感，光照后可引發(fā)有機(jī)硅離型劑再次反應(yīng)。本發(fā)明在第一離型層和第二離型層之間設(shè)置DMPA層，其離型力較高，可保證離型膜在膠帶或保護(hù)膜的模切過程中不會脫離、翹開，當(dāng)需要剝離離型膜時，使用紫外光照射，DMPA吸收紫外光輻射能而形成自由基，從而引發(fā)有機(jī)硅離型劑再次反應(yīng)，即，有機(jī)硅離型劑繼續(xù)固化，使離型力降低，易于剝離，并且避免膠帶或保護(hù)膜損壞。

所述第一離型層的下表面涂覆有DMPA層，增設(shè)一層DMPA層，使得光照后產(chǎn)生的自由基增多，有利于加速有機(jī)硅離型劑反應(yīng)，從而達(dá)到迅速降低離型力的目的。

所述基材層和第一離型層之間設(shè)置有抗靜電層，使得離型膜具備抗靜電效果，剝離時不會產(chǎn)生吸附粘連。

所述抗靜電層為聚噻吩型高分子導(dǎo)電層。

所述基材層為PET層。

綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本實用新型的有益效果是：

1.本實用新型將離型層設(shè)計為第一離型層和第二離型層，并在第一離型層和第二離型層之間設(shè)置DMPA層，一方面保證離型膜在膠帶或保護(hù)膜的模切過程中不會脫離、翹開，另一方面，當(dāng)需要剝離離型膜時，使用紫外光照射，DMPA吸收紫外光輻射能而形成自由基，從而引發(fā)有機(jī)硅離型劑再次反應(yīng)，離型力降低，易于剝離，避免膠帶或保護(hù)膜損壞；

2.本實用新型通過在基材層和第一離型層之間設(shè)置抗靜電層，使得離型膜剝離時不會產(chǎn)生吸附粘連。

附圖說明

圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。