[實(shí)用新型]基于折射率調(diào)控薄膜的偏振無關(guān)反射式介質(zhì)光柵有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820909793.2 | 申請(qǐng)日： | 2018-06-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN208672830U | 公開（公告）日： | 2019-03-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張明驍;馬平;蒲云體;喬曌;盧忠文;呂亮;邱服民 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 成都精密光學(xué)工程研究中心 |
| 主分類號(hào)： | G02B5/18 | 分類號(hào)： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214 | 代理人： | 韓雪 |
| 地址： | 610041 四*** | 國(guó)省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 折射率 薄膜 偏振無關(guān) 光柵 調(diào)控 多層介質(zhì)薄膜 本實(shí)用新型 反射式介質(zhì) 衍射效率 反射膜 光柵層 襯底 低折射率材料 高折射率材料 氧化物介質(zhì)膜 光學(xué)領(lǐng)域 介質(zhì)光柵 刻蝕光柵 利特羅角 中心波長(zhǎng) 槽結(jié)構(gòu) 高效率 連接層 入射光 入射角 波段 鍍制 衍射 反射 | ||
1.一種基于折射率調(diào)控薄膜的偏振無關(guān)反射式介質(zhì)光柵，其特征在于，所述光柵包括襯底(1)和光柵層(4)，并且襯底(1)上依次鍍制有反射膜(2)、氧化物介質(zhì)膜連接層(3)，并在光柵層刻蝕光柵槽結(jié)構(gòu)；所述反射膜(2)為折射率調(diào)控多層介質(zhì)薄膜，該反射膜(2)包括高折射率材料薄膜(2-1)和低折射率材料薄膜(2-2)；
所述低折射率材料薄膜(2-2)的低折射率鍍膜材料為SiO2,所述高折射率材料薄膜(2-1)的高折射率材料為Ta2O5或HfO2，所述氧化物介質(zhì)膜連接層(3)的材料為SiO2。
2.如權(quán)利要求1所述的基于折射率調(diào)控薄膜的偏振無關(guān)反射式介質(zhì)光柵，其特征在于，所述襯底(1)為熔石英襯底，所述光柵層(4)為折射率調(diào)控多層介質(zhì)膜光柵層。
3.如權(quán)利要求1所述的基于折射率調(diào)控薄膜的偏振無關(guān)反射式介質(zhì)光柵，其特征在于，所述反射膜(2)及所述光柵層(4)由離子束濺射雙元拼接靶材的方法制備，材料體系為SiO2:Ta2O5或SiO2:HfO2。
4.如權(quán)利要求3所述的基于折射率調(diào)控薄膜的偏振無關(guān)反射式介質(zhì)光柵，其特征在于，在膜層鍍制過程中,調(diào)節(jié)離子源和靶材之間的空間位置，實(shí)現(xiàn)膜層中高低折射率材料的混合比例控制。
5.如權(quán)利要求4所述的基于折射率調(diào)控薄膜的偏振無關(guān)反射式介質(zhì)光柵，其特征在于，進(jìn)一步的，所述反射膜(2)的折射率調(diào)控趨勢(shì)為隨光柵刻蝕深度遞增。
6.如權(quán)利要求4所述的基于折射率調(diào)控薄膜的偏振無關(guān)反射式介質(zhì)光柵，其特征在于，所述光柵層(4)的槽型結(jié)構(gòu)為矩形槽或梯形槽，光柵周期為1300線/mm，刻蝕深度小于1um，占空比范圍為0.3～0.7。
7.如權(quán)利要求6所述的基于折射率調(diào)控薄膜的偏振無關(guān)反射式介質(zhì)光柵，其特征在于，所述光柵周期不大于769nm。
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