[發明專利]用于加熱還原劑的系統有效
| 申請號： | 201811313819.8 | 申請日： | 2018-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN109751103B | 公開（公告）日： | 2021-03-19 |
| 發明（設計）人： | 維納伊·庫馬爾·喬希;阿迪特亞·巴夫;安杰什·赫曼特·薩哈斯拉布德赫;蒂莫西·M·道爾;斯特芬·M·霍爾 | 申請（專利權）人： | 康明斯排放處理公司 |
| 主分類號： | F01N3/20 | 分類號： | F01N3/20;F01N13/08 |
| 代理公司： | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人： | 湯慧華;鄭霞 |
| 地址： | 美國印*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 加熱 還原劑 系統 | ||
1.一種后處理系統，包括：
還原劑源，其被配置成儲存還原劑；
接頭，其被配置成從所述還原劑源接收還原劑；
配給泵模塊，其被配置成從所述接頭接收還原劑，并且選擇性地將還原劑提供到第一管道；
閥組件，其被配置成從所述第一管道接收還原劑，所述閥組件在第一狀態和第二狀態之間是可操作的，在所述第一狀態下，所述閥組件將還原劑提供到所述接頭，在所述第二狀態下，所述閥組件將還原劑提供到第二管道；和
配給模塊，其被配置成當被所述閥組件提供還原劑時從所述第二管道接收還原劑，所述配給模塊被配置成當被所述閥組件提供還原劑時向廢氣配給還原劑。
2.根據權利要求1所述的后處理系統，其中，所述配給泵模塊包括：
入口室，其被配置成從所述接頭接收還原劑；
泵，其被配置成從所述入口室接收還原劑并將還原劑提供到所述第一管道；和
加熱機構，其靠近所述入口室定位，所述加熱機構被配置成加熱所述入口室內的還原劑。
3.根據權利要求2所述的后處理系統，其中，所述加熱機構被配置成在所述閥組件處于所述第一狀態下時加熱所述入口室內的還原劑。
4.根據權利要求3所述的后處理系統，其中，所述閥組件在所述第一狀態下將還原劑僅提供到所述接頭。
5.根據權利要求2所述的后處理系統，其中，所述加熱機構被包含在所述泵內。
6.根據權利要求2所述的后處理系統，還包括：
傳感器，其被配置成確定所述還原劑源內的還原劑的溫度；
控制器，其與所述傳感器、所述泵和所述加熱機構是可通信的；
其中所述控制器被配置成基于由所述傳感器確定的還原劑的溫度來控制所述加熱機構的溫度和所述泵的速度中的至少一項。
7.根據權利要求6所述的后處理系統，其中，所述控制器被配置成基于由所述傳感器確定的還原劑的溫度和所述加熱機構的溫度來控制所述泵的速度。
8.根據權利要求6所述的后處理系統，其中，所述控制器被配置成基于由所述傳感器確定的還原劑的溫度和所述泵的速度來控制所述加熱機構的溫度。
9.根據權利要求2所述的后處理系統，其中，所述配給泵模塊還包括：
室；
過濾器，其定位在所述室內；以及
帽，其被配置成選擇性地封裝所述室，使得所述過濾器定位在所述室內。
10.根據權利要求9所述的后處理系統，其中，所述配給泵模塊還包括：
入口，其被配置成從所述還原劑源接收還原劑；
第一通道，其被配置成從所述入口接收還原劑并將還原劑提供到所述室；
第二通道，其被配置成從所述過濾器接收還原劑并將還原劑提供到所述泵；以及
出口，其被配置成從所述泵接收還原劑。
11.根據權利要求2所述的后處理系統，其中，所述加熱機構包括一系列電阻加熱元件。
12.根據權利要求1所述的后處理系統，其中，所述閥組件另外地在第三狀態下是可操作的，在所述第三狀態下，所述閥組件同時向所述接頭和所述配給模塊提供還原劑。
13.根據權利要求1所述的后處理系統，還包括：
空氣源；和
空氣泵，其被配置為從所述空氣源接收空氣并將空氣提供到所述配給模塊；
其中所述配給泵模塊被配置成當被所述閥組件提供還原劑時，在向廢氣配給還原劑時使空氣和還原劑混合。
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