[發明專利]控制三氧化二鉻中釩含量的方法在審
| 申請號： | 201811313664.8 | 申請日： | 2018-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN109182753A | 公開（公告）日： | 2019-01-11 |
| 發明（設計）人： | 付自碧;蔣霖 | 申請（專利權）人： | 攀鋼集團攀枝花鋼鐵研究院有限公司 |
| 主分類號： | C22B3/44 | 分類號： | C22B3/44;C01G37/033;C22B34/32 |
| 代理公司： | 成都虹橋專利事務所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 梁鑫 |
| 地址： | 617000 四*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 三氧化二鉻 打漿 除釩 洗滌 冶金技術領域 調節溶液pH 工藝過程 氫氧化鉻 含釩鉻 三價鉻 四價釩 氧化鉻 粗氫 煅燒 制備 沉淀 還原 消耗 能源 | ||
【權利要求書】：
1.控制三氧化二鉻中釩含量的方法，其特征在于包括如下步驟：
a.向釩鉻溶液中加入還原劑，在酸性條件下還原得到四價釩和三價鉻的混合溶液；
b.調節步驟a得到的混合溶液pH＝7～9，使四價釩、三價鉻沉淀，得到含釩的粗氫氧化鉻；
c.對步驟b得到的粗氫氧化鉻進行打漿洗滌得到精氫氧化鉻，控制精氫氧化鉻中Na2O含量為3.5％～6.0％；
d.將步驟c得到的精氫氧化鉻在1200～1400℃下煅燒2～4小時，然后經粉碎、打漿洗滌、干燥，獲得釩含量低的三氧化二鉻。
2.根據權利要求1所述的控制三氧化二鉻中釩含量的方法，其特征在于：步驟a中所述釩鉻溶液中鉻釩的濃度比TCr/TV≥30。
3.根據權利要求1或2所述的控制三氧化二鉻中釩含量的方法，其特征在于：所述還原劑為焦亞硫酸鈉、亞硫酸鈉、二氧化硫中的至少一種。
4.根據權利要求1～3任一項所述的控制三氧化二鉻中釩含量的方法，其特征在于：步驟b中通過氫氧化鈉或碳酸鈉調節混合溶液的pH。
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