本發明提供一等離子體發生器和應用該等離子體發生器的等離子體清洗裝置，用于處理一待處理表面。所述等離子體發生器包括至少一等離子體噴管組件，所述等離子體噴管組件包括復數個等離子體噴管和一公共流道。每一等離子體噴管具有一進氣端和一出口端；其中，每一所述等離子體噴管通過所述進氣端與所述公共流道流體連接，且每一所述等離子體噴管在所述公共流道上均勻排列；并且，每一所述等離子體噴管的所述出口端面朝所述待處理表面，并且，每一述等離子體發生器的所述出口端與所述待處理表面之間的距離相等。

技術領域

本發明涉及顯示面板技術領域，尤其涉及用于顯示面板的基板或蓋板清洗的等離子體發生器及等離子體清洗裝置。

背景技術

等離子體具有宏觀溫度低，電子溫度高的特點，其富含高活性激發態離子和高能帶電粒子，因而適用于對材料表面的改性和玻璃等物體表面的清洗。

圖1所示的是現有技術中一常見的等離子體發生裝置1。如圖1所示，所述等立體自發生裝置1包括：氣體源11，高壓射頻發生器12和噴頭13。所述噴頭13具有一內腔131，所述內腔131為絕緣體。所述氣體源11內的氣體通過一氣路111在所述噴頭13的所述內腔131內形成氣流112。所述高壓射頻發生器12則通過在所述噴頭13內的一陰極及一中樞電極121施加射頻電壓，以形成高頻交變電場。進而，使得所述內腔131內的氣流112在電弧122激蕩下形成等離子體束2。

在半導體行業和顯示面板行業中，需要經常使用到上述等離子體束2對產品進行清洗以增加其表面附著力，例如，對玻璃基板的清潔，綁定前對端子部的清潔，以及貼合前對玻璃蓋板的清潔等。通過等離子體束2對被清洗物進行物理轟擊，使被清洗物表面物質變成粒子和氣態物質，隨后經過抽真空排出，從而達到清洗目的。

圖2所示的是現有技術中一常見的等離子體清洗裝置3。如圖2所示，所述等離子體清洗裝置3包括一等離子體發生筒31。所述等離子體發生筒31的一端為進氣口311，一端為出氣口312。所述進氣口311與出氣口312分別設有環形電極32，并進而與一激勵電源33導電連接。使得所述等離子體發生筒31內的氣體形成等離子體。此外，通過在所述等離子體發生筒31上等距間隔的噴管311，對一待清潔表面S射出等離子體束進行清洗。

然而，在圖2所示的等離子體清洗裝置3中，由于等離子體為在所述等離子體發生筒31內產生后通過噴管311射出，存在等離子體射出不均勻現象，從而導致清洗效果不均勻。此外，在面臨曲面待清潔表面時，所述等離子體清洗裝置3還存在清洗死角的問題。

有鑒于此，需要提供一種新的等離子體發生器，以克服上述缺陷。

發明內容

本發明的目的在于提供一種等離子體發生器，所述等離子體發生器通過模組化的結構設計，可以應用于等離子體清洗裝置。此外，本發明所述的等離子體發生器及應用該等離子體發生器的等離子體清洗裝置，尤其適合于清洗曲面蓋板，通過合理設置等離子體噴管以達到最佳的清洗均勻性。

為了達到上述目的，本發明提供一種等離子體發生器，用于處理一待處理表面。所述等離子體發生器包括至少一等離子體噴管組件，所述等離子體噴管組件包括復數個等離子體噴管和一公共流道；其中，每一等離子體噴管具有一進氣端和一出口端；

每一所述等離子體噴管通過所述進氣端與所述公共流道流體連接，且每一所述等離子體噴管在所述公共流道上均勻排列；并且，

每一所述等離子體噴管的所述出口端面朝所述待處理表面，并且，每一述等離子體發生器的所述出口端與所述待處理表面之間的距離相等。

在本發明一實施例中，所述離子體發生器還包括一氣體源，所述氣體源與所述公共流道流體連接，用于向每一所述等離子體噴管組件提供氣體。

在本發明一實施例中，所述離子體發生器還包括一激勵電源，所述激勵電源與每一所述等離子體噴管導電連接，用以將由所述進氣端進入所述等離子體噴管內的氣體激發為等離子體。