[發(fā)明專利]一種高能激光器的壓制干擾方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811243814.2 | 申請日: | 2018-10-24 |
| 公開(公告)號: | CN109405636B | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉學(xué)勝;楊松;王聰聰;鄒吉躍;劉友強 | 申請(專利權(quán))人: | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | F41A33/02 | 分類號: | F41A33/02 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 王瑩;吳歡燕 |
| 地址: | 100022 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高能 激光器 壓制 干擾 方法 裝置 | ||
本發(fā)明實施例提供一種高能激光器的壓制干擾方法和裝置,該方法包括:獲取并追蹤高能激光器的位置,并向所述高能激光器發(fā)送頻率在高能激光器工作物質(zhì)的發(fā)射譜內(nèi)的干擾激光,以減少所述高能激光器中工作物質(zhì)的反轉(zhuǎn)粒子數(shù),降低所述高能激光器的輸出功率。通過激光源照射高能激光器,激光進入到高能激光器工作物質(zhì)內(nèi),消耗工作物質(zhì)內(nèi)累計的上能級粒子數(shù),降低反轉(zhuǎn)粒子數(shù)△n,使高能激光器工作時的增益大大降低,從而降低高能激光器的輸出功率,達到有效、快速、最低成本的壓制和干擾高能激光器的目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明實施例涉及高能激光器技術(shù)領(lǐng)域,更具體地,涉及一種高能激光器的壓制干擾方法和裝置。
背景技術(shù)
激光器從問世至今一直沒有停止過發(fā)展步伐,隨著技術(shù)的進步,激光器的輸出功率一直在提高,已經(jīng)達到了10萬瓦的級別。自從激光發(fā)明后,由于其方向性好,功率高等優(yōu)勢,軍事用途就迅速為人們發(fā)現(xiàn),經(jīng)過40多年的發(fā)展,高能激光武器已經(jīng)取得可喜的進步,在輸出光功率、光束質(zhì)量以及小型化方面都取得進步。
激光武器是一種定向能武器,利用強大的定向發(fā)射的激光束直接毀傷目標或使之失效。它是利用高亮度強激光束攜帶的巨大能量摧毀或殺傷敵方飛機、導(dǎo)彈、衛(wèi)星和人員等目標的高技術(shù)新概念武器。強激光武器有著其它武器無可比擬的優(yōu)點,強激光武器具有速度快、精度高、攔截距離遠、火力轉(zhuǎn)移迅速、不受外界電磁波干擾、持續(xù)戰(zhàn)斗力強等優(yōu)點。
很多國家都在研究如何將高能激光器的武器化,部分激光已經(jīng)用作摧毀低、慢、小型目標,例如直接引爆導(dǎo)彈、毀傷汽車引擎、摧毀無人機等,大功率激光源用作為武器裝備,在光電對抗、防空和戰(zhàn)略防御中可發(fā)揮獨特作用。為此,有效的壓制、干擾高能激光源具有重大意義,現(xiàn)有技術(shù)中采用的方法是發(fā)射煙幕彈,通過煙霧散射降低激光威脅的防護方式,此方法更加別動,不夠靈活,且不方便持續(xù)使用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供一種克服上述問題或者至少部分地解決上述問題的一種高能激光器的壓制干擾方法和裝置。
第一方面,本發(fā)明實施例提供一種高能激光器的壓制干擾方法,包括:
獲取并追蹤高能激光器的位置,并向所述高能激光器發(fā)送頻率在高能激光器工作物質(zhì)的發(fā)射譜內(nèi)的干擾激光,以減少所述高能激光器中工作物質(zhì)的反轉(zhuǎn)粒子數(shù),降低所述高能激光器的輸出功率。
作為優(yōu)選的,并向所述高能激光器發(fā)送干擾激光,具體包括:
獲取所述高能激光器的實時位置后,根據(jù)高能激光器的實時位置,持續(xù)向所述高能激光器發(fā)送干擾激光。
作為優(yōu)選的,獲取并追蹤高能激光器的位置后,還包括:
檢測所述高能激光器輸出激光的頻率、波長。
作為優(yōu)選的,檢測所述高能激光器輸出激光的頻率后,還包括:
基于高能激光器輸出激光的頻率,獲得高能激光器工作物質(zhì),并選擇頻率在高能激光器工作物質(zhì)的發(fā)射譜內(nèi)的激光作為干擾激光。
第二方面,本發(fā)明實施例提供一種高能激光器的壓制干擾裝置,包括追蹤裝置和干擾光源;
所述追蹤裝置,用于獲取并追蹤高能激光器的位置;
所述干擾光源,用于向所述高能激光器發(fā)送頻率在高能激光器工作物質(zhì)的發(fā)射譜內(nèi)的干擾激光,以減少所述高能激光器中工作物質(zhì)的反轉(zhuǎn)粒子數(shù),降低所述高能激光器的輸出功率。
作為優(yōu)選的,所述干擾光源包括探測瞄準裝置,所述探測瞄準裝置用于獲取所述高能激光器的實時位置后,根據(jù)高能激光器的實時位置,將干擾光源的干擾激光持續(xù)發(fā)送至所述高能激光器。
作為優(yōu)選的,還包括激光分析裝置,所述激光分析裝置用于檢測所述高能激光器輸出激光的頻率,基于高能激光器輸出激光的頻率,獲得高能激光器工作物質(zhì),并選擇頻率在高能激光器工作物質(zhì)的發(fā)射譜內(nèi)的激光作為干擾激光。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京工業(yè)大學(xué),未經(jīng)北京工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.17sss.com.cn/pat/books/201811243814.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





