[發(fā)明專利]一種巷道掘進掩護支架及支護方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811179398.4 | 申請日： | 2018-10-10 |
| 公開（公告）號： | CN109139074A | 公開（公告）日： | 2019-01-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 馬振凱 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國礦業(yè)大學(xué)（北京） |
| 主分類號： | E21D23/04 | 分類號： | E21D23/04;E21D23/06;E21D23/12 |
| 代理公司： | 北京邦創(chuàng)至誠知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11717 | 代理人： | 張宇鋒 |
| 地址： | 100083 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 巷道掘進 掩護板 支架 巷道頂板 支護 巷道底板 掩護梁 錨桿支護作業(yè) 凹凸不平 傳統(tǒng)工藝 發(fā)生移動 扭曲變形 支撐方式 上表面 下表面 支頂 傾倒 伸出 穩(wěn)固 支撐 安全 | ||
1.一種巷道掘進掩護支架，其特征在于，包括：掩護板梁，所述掩護板梁上設(shè)置有能夠同時在該掩護板梁上方和下方伸出的雙向頂伸機構(gòu)，所示雙向頂伸機構(gòu)支頂在巷道底板和巷道頂板上，進而將掩護板梁支護在所示巷道頂板下方的設(shè)定高度。
2.如權(quán)利要求1所述的掩護支架，其特征在于，在所述掩護板梁上設(shè)置多個所述雙向頂伸機構(gòu)，通過控制每個雙向頂伸機構(gòu)在掩護板梁上方和下方的伸出長度，進而將掩護板梁抬升至設(shè)定高度。
3.如權(quán)利要求1所述的掩護支架，其特征在于，所述雙向頂伸機構(gòu)包括：反向頂靠設(shè)置的上活塞缸和下活塞缸，所述上活塞缸的活塞桿向上伸出，所述下活塞缸的活塞桿向下伸出，所述掩護板梁固定在上活塞缸和/或下活塞缸的缸體上。
4.如權(quán)利要求3所述的掩護支架，其特征在于，所述上活塞缸和所述下活塞缸沿同一軸線設(shè)置。
5.如權(quán)利要求3所述的掩護支架，其特征在于，所述上活塞缸和所述下活塞缸交錯設(shè)置，使二者的軸線平行。
6.如權(quán)利要求5所述的掩護支架，其特征在于，設(shè)置有承力橫梁，位于同一側(cè)的所述下活塞缸設(shè)置在所述承力橫梁的下側(cè)，所述上活塞缸設(shè)置在所述承力橫梁上側(cè)。
7.如權(quán)利要求1所述的掩護支架，其特征在于，所述掩護板梁上設(shè)置有鉆孔天窗。
8.如權(quán)利要求1所述的掩護支架，其特征在于，所述掩護板梁上設(shè)置有所述雙向頂伸機構(gòu)的安裝孔。
9.如權(quán)利要求3所述的掩護支架，其特征在于，所述雙向頂伸機構(gòu)設(shè)置在所述掩護板梁兩側(cè)，位于兩側(cè)的雙向頂伸機構(gòu)之間的間距大于掘進機的寬度。
10.一種基于權(quán)利要求1中所述巷道掘進掩護支架的支護方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：
步驟一、根據(jù)∑nP下1≤G，控制雙向頂伸機構(gòu)向下頂伸至全部雙向頂伸機構(gòu)與巷道底板接觸，P下1為雙向頂伸機構(gòu)向下頂伸力，G為掩護板梁的重力；
步驟二、根據(jù)∑nP下2＞G，增加雙向頂伸機構(gòu)的向下頂伸力抬升所述掩護板梁至設(shè)定高度，P下2為一次增壓后雙向頂伸機構(gòu)向下頂伸力；
步驟三、根據(jù)∑n P上1≤∑n P下2-G，控制雙向頂伸機構(gòu)向上頂伸至全部雙向頂伸機構(gòu)與巷道頂板接觸，P上1為雙向頂伸機構(gòu)向上頂伸力；
步驟四、根據(jù)P下＝P上＝P標(biāo)，增加雙向頂伸機構(gòu)向上和向下頂伸力至設(shè)定值，其中，P下為二次增壓后雙向頂伸機構(gòu)向下頂伸力，P上為增壓后雙向頂伸機構(gòu)向上頂伸力，P標(biāo)為設(shè)定的頂伸力。
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