6.一種基材處理裝置，其一面搬送長條帶狀的被處理基材一面進行處理，其特征在于，包括：

吸附輥，具備具有多個吸附孔的外周面；

導入部，向所述吸附輥的外周面導入層疊有長條帶狀的支撐膜與所述被處理基材的層疊基材；

剝離輥，具有隔著所述層疊基材與所述吸附輥的所述外周面對向的外周面；以及

按壓機構，向所述吸附輥上按壓所述剝離輥；

在所述層疊基材穿過所述吸附輥與所述剝離輥之間后，將所述支撐膜從所述被處理基材上剝離并朝遠離所述吸附輥的方向搬送，另一方面，將所述被處理基材吸附保持在所述吸附輥上，

所述層疊基材相對于所述剝離輥的外周面可滑動地得到保持，

其中所述基材處理裝置包括：

作為所述剝離輥的第1剝離輥；以及

第2剝離輥，比所述第1剝離輥更位于所述吸附輥的旋轉方向下游側，并具有與所述吸附輥的外周面對向的外周面；

在所述第1剝離輥與所述吸附輥之間，將所述層疊基材保持在所述第1剝離輥上，

在所述第2剝離輥與所述吸附輥之間，將所述支撐膜保持在所述第2剝離輥上，并且將所述被處理基材保持在所述吸附輥上。