[發(fā)明專(zhuān)利]含有多層編程膜的三維縱向多次編程存儲(chǔ)器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810045348.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110047869A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張國(guó)飆 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 廈門(mén)海存艾匹科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/24 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/24 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 361021 福建省*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 編程 存儲(chǔ)器 多次編程 水平地址 多層 三維 存儲(chǔ) 編程材料 垂直堆疊 多層次膜 覆蓋存儲(chǔ) 地址線(xiàn) 邊墻 次膜 井中 豎直 穿透 | ||
本發(fā)明提出一種含有多層編程膜的三維縱向多次編程存儲(chǔ)器(3D?MTPV)。它含有多個(gè)相互垂直堆疊的水平地址線(xiàn),多個(gè)穿透水平地址線(xiàn)的存儲(chǔ)井,一層覆蓋存儲(chǔ)井邊墻的編程膜,多條形成在存儲(chǔ)井中的豎直地址線(xiàn)。編程膜含有多層次膜,這些次膜含有不同的編程材料。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路存儲(chǔ)器領(lǐng)域,更確切地說(shuō),涉及多次編程存儲(chǔ)器(multiple-time programmable memory,簡(jiǎn)稱(chēng)為MTP;也被稱(chēng)為重復(fù)編程存儲(chǔ)器)。
背景技術(shù)
三維多次編程存儲(chǔ)器(3D-MTP)是一種單體(monolithic)半導(dǎo)體存儲(chǔ)器,它含有多個(gè)垂直堆疊的MTP存儲(chǔ)元。3D-MTP的存儲(chǔ)元分布在三維空間中,而傳統(tǒng)的平面型MTP的存儲(chǔ)元分布在二維平面上。相對(duì)于傳統(tǒng)MTP,3D-MTP具有存儲(chǔ)密度大、存儲(chǔ)成本低等優(yōu)點(diǎn)。
美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)US 2017/0148851 A1(申請(qǐng)人:Hsu;申請(qǐng)日:2016年11月23日)提出一種三維縱向多次編程存儲(chǔ)器(3D-MTPV)。它含有多個(gè)垂直堆疊的水平地址線(xiàn),多個(gè)穿透水平地址線(xiàn)的存儲(chǔ)井,覆蓋存儲(chǔ)井邊墻的編程膜和二極管膜(也被稱(chēng)為選擇器selector、選向器steering element、準(zhǔn)導(dǎo)通膜等名稱(chēng)),以及多條形成在存儲(chǔ)井中的豎直地址線(xiàn)。在該專(zhuān)利申請(qǐng)中,為了實(shí)現(xiàn)存儲(chǔ)元的編程以及避免存儲(chǔ)元之間的干擾,每個(gè)存儲(chǔ)元均含有單獨(dú)的編程膜和單獨(dú)的二極管膜。二極管膜的厚度一般較大。以P-N薄膜二極管為例,具有良好正反電流選擇比(rectifying ratio)的P-N薄膜二極管的厚度在100nm以上。這么厚的二極管膜如形成在存儲(chǔ)井中,將導(dǎo)致存儲(chǔ)井尺寸很大,存儲(chǔ)密度降低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是提高三維多次編程存儲(chǔ)器(3D-MTP)的存儲(chǔ)密度。
本發(fā)明的另一目的是使存儲(chǔ)井的填充工藝更加簡(jiǎn)單。
本發(fā)明的另一目的是使存儲(chǔ)井的尺寸更小。
本發(fā)明的另一目的是在存儲(chǔ)元漏電流較大的情況下保證3D-MTP的正常工作。
為了實(shí)現(xiàn)這些以及別的目的,本發(fā)明提出一種含有多層編程膜的三維縱向多次編程存儲(chǔ)器(3D-MTPV)。它含有多個(gè)在襯底電路上并肩排列的MTP存儲(chǔ)串,每個(gè)MTP存儲(chǔ)串垂直與襯底且含有多個(gè)垂直堆疊的MTP存儲(chǔ)元。具體說(shuō)來(lái),3D-MTPV含有多條垂直堆疊的水平地址線(xiàn)(字線(xiàn))。在刻蝕出多個(gè)穿透這些水平地址線(xiàn)的存儲(chǔ)井后,在存儲(chǔ)井的邊墻覆蓋一層編程膜,并填充導(dǎo)體材料以形成豎直地址線(xiàn)(位線(xiàn))。導(dǎo)體材料可以是金屬材料或摻雜的半導(dǎo)體材料。MTP存儲(chǔ)元形成在字線(xiàn)和位線(xiàn)的交叉處。
為了避免存儲(chǔ)井尺寸過(guò)大,本發(fā)明中的MTP存儲(chǔ)元只含有單獨(dú)的編程膜,并不含有單獨(dú)的二極管膜, 二極管是在水平地址線(xiàn)、編程膜以及豎直地址線(xiàn)之間自然形成的。由于不需在存儲(chǔ)井的邊墻上形成二極管膜,存儲(chǔ)井的填充變得容易,這將簡(jiǎn)化工藝流程。此外,這種設(shè)計(jì)還能縮小存儲(chǔ)井的尺寸,增加存儲(chǔ)密度。
這種自然形成的二極管(即自建二極管)性能一般不佳,漏電流較大。為了避免在讀過(guò)程中由于漏電流過(guò)大導(dǎo)致存儲(chǔ)元之間互相干擾,本發(fā)明還提出一種“全讀”模式:在一個(gè)讀周期中讀出與一條字線(xiàn)電耦合的所有MTP存儲(chǔ)元存儲(chǔ)的信息。讀周期分兩個(gè)階段:預(yù)充電階段和讀階段。在預(yù)充電階段,MTP陣列中所有地址線(xiàn)(包括所有字線(xiàn)和所有位線(xiàn))均被預(yù)充電到一預(yù)設(shè)電壓。在讀階段,當(dāng)一選中字線(xiàn)上的電壓上升到讀電壓VR后,它通過(guò)與之耦合的MTP存儲(chǔ)元向所有位線(xiàn)充電。通過(guò)測(cè)量位線(xiàn)上的電壓變化,可確定相應(yīng)MTP存儲(chǔ)元所存儲(chǔ)的信息。
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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