[發(fā)明專利]一種取向設(shè)備及取向參數(shù)的校驗(yàn)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810007249.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108051955B | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高云;郭建;孟維欣;王曉杰;李曉錦;孫祿標(biāo);任偉;陳強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1337 | 分類號(hào): | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 胡艷華;李丹 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 取向 設(shè)備 參數(shù) 校驗(yàn) 方法 | ||
1.一種取向參數(shù)的校驗(yàn)方法,其特征在于,待取向基板上設(shè)置有位置標(biāo)記和校驗(yàn)標(biāo)記,取向設(shè)備包括用于承載待取向基板的載臺(tái),所述載臺(tái)的相應(yīng)位置設(shè)置有用于采集所述位置標(biāo)記和所述校驗(yàn)標(biāo)記的圖像采集裝置,所述方法包括:
所述圖像采集裝置采集位置標(biāo)記圖像和校驗(yàn)標(biāo)記圖像;
所述校驗(yàn)標(biāo)記包括位置指示標(biāo),對(duì)位置標(biāo)記圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板相對(duì)于載臺(tái)的當(dāng)前放置方向,對(duì)位置指示標(biāo)圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板相對(duì)于載臺(tái)的預(yù)定放置方向;
判定基板相對(duì)于載臺(tái)的當(dāng)前放置方向和預(yù)定放置方向是否一致,當(dāng)基板的當(dāng)前放置方向和預(yù)定放置方向一致時(shí),對(duì)校驗(yàn)標(biāo)記圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向參數(shù);
判定取向設(shè)備的預(yù)設(shè)運(yùn)行參數(shù)與基板的取向參數(shù)是否一致,當(dāng)取向設(shè)備的預(yù)設(shè)運(yùn)行參數(shù)與基板的取向參數(shù)一致時(shí),結(jié)束校驗(yàn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,該方法還包括:
當(dāng)判定基板相對(duì)于載臺(tái)的當(dāng)前放置方向和預(yù)定放置方向不一致,發(fā)出第一報(bào)警提示。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,該方法還包括:
當(dāng)判定取向設(shè)備的預(yù)設(shè)運(yùn)行參數(shù)與基板的取向參數(shù)不一致時(shí),發(fā)出第二報(bào)警提示。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,校驗(yàn)標(biāo)記還包括方向指示標(biāo)或角度編碼,所述對(duì)校驗(yàn)標(biāo)記圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向參數(shù),包括:
對(duì)方向指示標(biāo)圖像或角度編碼圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向方向和角度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,校驗(yàn)標(biāo)記還包括方向指示標(biāo)和角度編碼,所述對(duì)校驗(yàn)標(biāo)記圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向參數(shù),包括:
對(duì)方向指示標(biāo)圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向方向,對(duì)角度編碼圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向角度。
6.一種取向設(shè)備,其特征在于,待取向基板上設(shè)置有位置標(biāo)記和校驗(yàn)標(biāo)記,所述設(shè)備包括用于承載待取向基板的載臺(tái),所述設(shè)備還包括:
圖像采集裝置,用于采集位置標(biāo)記圖像和校驗(yàn)標(biāo)記圖像;
校驗(yàn)裝置,與所述圖像采集裝置連接,所述校驗(yàn)標(biāo)記包括位置指示標(biāo),
所述校驗(yàn)裝置包括:第一分析處理單元、第二分析處理單元、第一判定單元、和校驗(yàn)單元;
所述第一分析處理單元,用于對(duì)位置標(biāo)記圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板相對(duì)于載臺(tái)的當(dāng)前放置方向;
所述第二分析處理單元,用于對(duì)位置指示標(biāo)圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板相對(duì)于載臺(tái)的預(yù)定放置方向;
所述第一判定單元,用于判定基板相對(duì)于載臺(tái)的當(dāng)前放置方向和預(yù)定放置方向是否一致;
所述校驗(yàn)單元,包括:第三分析處理單元和第二判定單元;
所述第三分析處理單元,用于當(dāng)基板的當(dāng)前放置方向和預(yù)定放置方向一致時(shí),對(duì)校驗(yàn)標(biāo)記圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向參數(shù);
所述第二判定單元,用于判定取向設(shè)備的預(yù)設(shè)運(yùn)行參數(shù)與基板的取向參數(shù)是否一致,當(dāng)取向設(shè)備的預(yù)設(shè)運(yùn)行參數(shù)與基板的取向參數(shù)一致時(shí),結(jié)束校驗(yàn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述校驗(yàn)裝置還包括:
第一報(bào)警單元,用于當(dāng)基板的當(dāng)前放置方向和預(yù)定放置方向不一致時(shí),發(fā)出第一報(bào)警提示。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述校驗(yàn)單元還包括:
第二報(bào)警單元,用于當(dāng)取向設(shè)備的預(yù)設(shè)運(yùn)行參數(shù)與基板的取向參數(shù)不一致時(shí),發(fā)出第二報(bào)警提示。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,校驗(yàn)標(biāo)記還包括方向指示標(biāo)或角度編碼,所述第三分析處理單元包括:
第一分析處理子單元,用于對(duì)方向指示標(biāo)圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向方向和角度;
第二分析處理子單元,用于角度編碼圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向方向和角度。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,校驗(yàn)標(biāo)記還包括方向指示標(biāo)和角度編碼,所述第三分析處理單元包括:
第三分析處理子單元,用于對(duì)方向指示標(biāo)圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向方向;
第四分析處理子單元,用于對(duì)角度編碼圖像進(jìn)行分析處理,獲得基板的取向角度。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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