[發(fā)明專利]用于磁共振成像的可調(diào)諧RF線圈有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780050625.0 | 申請日: | 2017-08-16 |
| 公開(公告)號: | CN109642931B | 公開(公告)日: | 2022-01-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | C·芬德科里;C·洛斯勒 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/34 | 分類號: | G01R33/34;G01R33/36;G01R33/422 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光穎;王英 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 磁共振 成像 調(diào)諧 rf 線圈 | ||
本發(fā)明涉及一種用于磁共振成像(MRI)系統(tǒng)中的射頻(RF)體線圈(2),包括:RF屏蔽(6);RF線圈元件(8),其遠(yuǎn)離RF屏蔽(6)被布置;以及至少一個距離設(shè)置元件(10),其以這樣的方式被布置和設(shè)計:RF屏蔽(6)與RF線圈元件(8)之間的相對距離(12)可經(jīng)由距離設(shè)置元件(10)調(diào)節(jié),這可以導(dǎo)致RF線圈元件(8)和/或RF屏蔽(6)局部地變形。因此,提供了一種用于磁共振成像系統(tǒng)中的射頻線圈,其可以以舒適和經(jīng)濟(jì)的方式調(diào)諧到期望共振。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于磁共振成像(MRI)的可調(diào)諧射頻(RF)線圈/用于調(diào)諧磁共振成像系統(tǒng)中的可調(diào)諧射頻線圈的方法以及包括可調(diào)諧射頻體線圈的磁共振成像系統(tǒng)。
背景技術(shù)
磁共振成像(MRI)是一種用于放射學(xué)中的醫(yī)學(xué)成像技術(shù),以對感興趣對象的解剖結(jié)構(gòu)和生理過程進(jìn)行成像。MRI使用磁體來創(chuàng)建強(qiáng)而均勻的靜磁場(即“主磁場”),并且使用梯度線圈來在電流被施加到梯度線圈時產(chǎn)生較小幅度、空間變化的磁場。當(dāng)感興趣對象被置于主磁場中時,與組織水中的氫核相關(guān)聯(lián)的核自旋變得極化。與這些自旋相關(guān)聯(lián)的磁矩優(yōu)先沿主磁場的方向?qū)R,從而導(dǎo)致沿該軸的小的凈組織磁化,并且梯度線圈編碼MR信號。
RF線圈用于創(chuàng)建氫核的共振頻率處或附近的RF能量的脈沖,所述共振頻率在本文中也稱為拉莫爾頻率。這些RF線圈用于發(fā)射RF激勵信號并接收(分別地檢測)用于形成圖像的MR信號。對于多發(fā)射MRI應(yīng)用,兩種類型的退化RF線圈,鳥籠線圈和橫向電磁(TEM)線圈,廣泛用于超高場(UHF)成像,并且正被引入在商用3T全身MRI掃描器中。
通常由電容器將RF線圈調(diào)諧到期望頻率,例如拉莫爾頻率。為了實現(xiàn)期望頻率,線圈的RF屏蔽被移除,并且電容器被添加、移除或用具有不同電容的另一電容器替換。測量(分別地確定)經(jīng)修改的RF線圈的頻率以確保RF線圈以期望頻率操作。然而,RF線圈能夠需要重新調(diào)諧若干次以實現(xiàn)期望頻率。因此,對于每次重新調(diào)諧操作,RF屏蔽必須被移除,并且電容器被修改直到RF線圈被調(diào)諧到期望頻率,這是時間和成本消耗的。
日本專利申請JP 07-155307公開了一種RF線圈,如果改變RF屏蔽相對于RF線圈的形狀,則所述RF線圈的共振頻率改變。根據(jù)這些核的旋磁比的差異,已知RF線圈可以失諧以針對不同的核進(jìn)行共振。
發(fā)明內(nèi)容
期望改進(jìn)調(diào)諧RF線圈的舒適度并且減少將RF線圈調(diào)諧到期望頻率的時間和成本。
因此,本發(fā)明的一個目的是提供一種用于磁共振成像系統(tǒng)中的射頻線圈,所述系統(tǒng)可以舒適和經(jīng)濟(jì)的方式調(diào)諧到所需的頻率和/或均勻性。
通過獨(dú)立權(quán)利要求的主題實現(xiàn)本發(fā)明的目的。在從屬權(quán)利要求中描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施例。
在一個方面中,目的通過用于磁共振成像(MRI)系統(tǒng)的可調(diào)諧射頻(RF)體線圈來實現(xiàn),其包括:
-射頻屏蔽,
-RF線圈元件,其遠(yuǎn)離RF屏蔽被布置,并且
-至少一個距離設(shè)置元件,其以這樣的方式被布置和設(shè)計:RF屏蔽與RF線圈元件之間的相對距離能通過使RF線圈元件和/或RF屏蔽局部地變形來經(jīng)由距離設(shè)置元件局部地調(diào)節(jié)。
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