1.一種測(cè)試隧道正斷層黏滑錯(cuò)動(dòng)的試驗(yàn)箱裝置，其特征在于：其包括模擬試驗(yàn)箱和千斤頂（3）；所述模擬試驗(yàn)箱包括并排水平放置且接觸面平滑吻合的模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）和模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2），所述模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）和模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）內(nèi)填滿土且埋設(shè)有貫穿模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）和模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）的隧道結(jié)構(gòu)（6），所述模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）和模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）的底部分別均布有所述千斤頂（3），所述模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）和模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）之間平滑吻合的接觸面為發(fā)生錯(cuò)動(dòng)的斷層（8）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測(cè)試隧道正斷層黏滑錯(cuò)動(dòng)的試驗(yàn)箱裝置，其特征在于：其還包括用于測(cè)量斷層錯(cuò)動(dòng)量d的錯(cuò)動(dòng)量計(jì)量裝置，所述錯(cuò)動(dòng)量計(jì)量裝置包括激光測(cè)距傳感器（4）和/或刻度線（7）；所述刻度線（7）沿所述模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）和模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）外表面上的斷層（8）繪制；所述激光測(cè)距傳感器（4）分別安裝在所述模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）和模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）的底部，抑或安裝在所述模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）或模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）中任一的側(cè)表面，另一未安裝激光測(cè)距傳感器（4）的模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）或模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）的側(cè)表面上設(shè)有用于接擋激光測(cè)距傳感器（4）所發(fā)射激光的激光擋板（5），所述激光擋板（5）和激光測(cè)距傳感器（4）位于模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）和模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）的同側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測(cè)試隧道正斷層黏滑錯(cuò)動(dòng)的試驗(yàn)箱裝置，其特征在于：在所述模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）兩側(cè)加裝有勁肋或在其底部加裝有鋼板，勁肋或鋼板上設(shè)有可經(jīng)螺栓與地面固定的螺栓孔。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測(cè)試隧道正斷層黏滑錯(cuò)動(dòng)的試驗(yàn)箱裝置，其特征在于：所述千斤頂（3）分別分布在模擬斷層上盤(pán)試驗(yàn)箱（1）和模擬斷層下盤(pán)試驗(yàn)箱（2）的四個(gè)角。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測(cè)試隧道正斷層黏滑錯(cuò)動(dòng)的試驗(yàn)箱裝置，其特征在于：所述千斤頂（3）為5噸千斤頂。