[發明專利]復合量子點、量子點固態膜及其應用在審
| 申請號： | 201711480574.3 | 申請日： | 2017-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN109988573A | 公開（公告）日： | 2019-07-09 |
| 發明（設計）人： | 程陸玲;楊一行 | 申請（專利權）人： | TCL集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C09K11/66 | 分類號： | C09K11/66;H01L33/06;B82Y40/00;B82Y20/00 |
| 代理公司： | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人： | 黃志云 |
| 地址： | 516006 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 量子點 復合量子點 鹵化物陰離子 固態膜 顆粒表面 電沉積 制備 電荷傳導 光學特性 電負性 沉積 修飾 應用 | ||
1.一種復合量子點，其特征在于，所述復合量子點為鹵化物陰離子修飾的量子點，包括量子點顆粒，以及結合在所述量子點顆粒表面的鹵化物陰離子。
2.如權利要求1所述的復合量子點，其特征在于，所述鹵化物陰離子為[MXm+n]n-，M選自Pb、Cd、Zn、In、Fe、Sb中的一種，X選自Cl、Br、I中的一種，m為M的化合價數，n為所述鹵化物陰離子的價數，其中，m為2或3，且當m為2時，n為1；當m為3時，n為1或2。
3.一種復合量子點的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
將鹵化物分散在極性溶劑中，得到鹵化物陰離子，其中，所述極性溶劑為能夠使所述鹵化物電離形成鹵化物陰離子和鹵化物陽離子的有機溶劑；
提供表面含有油溶性配體的量子點，將所述量子點與所述鹵化物陰離子混合處理，所述鹵化物陰離子與所述量子點表面的配體發生交換反應，制備得到鹵化物陰離子修飾的量子點。
4.如權利要求3所述的復合量子點的制備方法，其特征在于，所述鹵化物為MXm，所述鹵化物陰離子為[MXm+n]n-，其中，M選自Pb、Cd、Zn、In、Fe、Fe、Sb中的一種，X選自Cl、Br、I中的一種，m為M的化合價數，n為所述鹵化物陰離子的價數，其中，m為2或3，且當m為2時，n為1；當m為3時，n為1或2。
5.如權利要求3所述的復合量子點的制備方法，其特征在于，所述極性溶劑的施主數為10-50。
6.如權利要求5所述的復合量子點的制備方法，其特征在于，所述有機溶劑選自甲基甲酰胺、丙烯碳酸酯、二甲基甲酰胺、乙腈、二甲基亞砜、甲醇、乙醇、丙醇中的至少一種。
7.如權利要求3-6任一項所述的復合量子點的制備方法，其特征在于，將所述量子點與所述鹵化物陰離子混合處理的步驟中，按照所述量子點和所述鹵化物陰離子的質量摩爾比為100mg：(0.2～1mmol)的比例混合處理。
8.一種量子點固態膜，其特征在于，所述量子點固態膜含有權利要求1或2所述的復合量子點，或所述量子點固態膜含有權利要求3-7任一項所述方法制備獲得的復合量子點。
9.一種量子點固態膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
提供復合量子點的分散液，所述復合量子點的分散液中，復合量子點為鹵化物陰離子修飾的量子點，所述鹵化物陰離子修飾的量子點包括量子點顆粒，以及結合在所述量子點顆粒表面的鹵化物陰離子；
在基板上沉積所述復合量子點的分散液，退火處理，得到量子點固態膜。
10.如權利要求9所述的量子點固態膜的制備方法，其特征在于，所述鹵化物陰離子為[MXm+n]n-，其中，M選自Pb、Cd、Zn、In、Fe、Fe、Sb中的一種，X選自Cl、Br、I中的一種，m為M的化合價數，n為所述鹵化物陰離子的價數，其中，m為2或3，且當m為2時，n為1；當m為3時，n為1或2。
11.一種發光器件，其特征在于，包括陽極和陰極，以及設置在所述陽極和所述陰極之間的量子點發光層，所述量子點發光層含有復合量子點，所述復合量子點為鹵化物陰離子修飾的量子點，包括量子點顆粒，以及結合在所述量子點顆粒表面的鹵化物陰離子。
12.如權利要求11所述的發光器件，其特征在于，所述鹵化物陰離子為[MXm+n]n-，其中，M選自Pb、Cd、Zn、In、Fe、Fe、Sb中的一種，X選自Cl、Br、I中的一種，m為M的化合價數，n為所述鹵化物陰離子的價數，其中，m為2或3，且當m為2時，n為1；當m為3時，n為1或2。
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