[發明專利]化學增幅型正型抗蝕劑組合物和抗蝕劑圖案形成方法有效
| 申請號： | 201711451906.5 | 申請日： | 2017-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN108255019B | 公開（公告）日： | 2021-04-09 |
| 發明（設計）人： | 小竹正晃;增永惠一;渡邊聰;大橋正樹 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/039 | 分類號： | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/20;G03F1/76 |
| 代理公司： | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人： | 何楊 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 增幅 型正型抗蝕劑 組合 抗蝕劑 圖案 形成 方法 | ||
1.正型抗蝕劑組合物，包括具有式(A)的锍化合物和(B)基礎聚合物，該基礎聚合物含有包含具有式(B1)的重復單元、適于在酸的作用下分解以增大其在堿顯影劑中的溶解度的聚合物，
該聚合物還包含選自具有式(B3)、(B4)和(B5)的單元中的至少一種的重復單元：
其中R1、R2和R3各自獨立地為可含有雜原子的C1-C20直鏈、支化或環狀的一價烴基，p和q各自獨立地為0-5的整數，r為0-4的整數，在p＝2-5的情況下，兩個相鄰的基團R1可以鍵合在一起以與它們所結合的碳原子形成環，在q＝2-5的情況下，兩個相鄰的基團R2可以鍵合在一起以與它們所結合的碳原子形成環，在r＝2-4的情況下，兩個相鄰的基團R3可以鍵合在一起以與它們所結合的碳原子形成環，
其中RA為氫、氟、甲基或三氟甲基，R11各自獨立地為鹵素、任選鹵代的C2-C8直鏈、支化或環狀的酰氧基、任選鹵代的C1-C6直鏈、支化或環狀的烷基、或者任選鹵代的C1-C6直鏈、支化或環狀的烷氧基，A1為單鍵或者C1-C10直鏈、支化或環狀的亞烷基，其中醚鍵可介于碳-碳鍵之間，v為0或1，w為0-2的整數，a為滿足0≤a≤5+2w-b的整數，并且b為1-3的整數，
其中RA如上所定義，R13和R14各自獨立地為羥基、鹵素原子、任選鹵代的C2-C8直鏈、支化或環狀的酰氧基、任選鹵代的C1-C8直鏈、支化或環狀的烷基、或者任選鹵代的C1-C8直鏈、支化或環狀的烷氧基，R15為乙酰基、C1-C20直鏈、支化或環狀的烷基、C1-C20直鏈、支化或環狀的烷氧基、C2-C20直鏈、支化或環狀的酰氧基、C2-C20直鏈、支化或環狀的烷氧基烷基、C2-C20烷硫基烷基、鹵素原子、硝基、氰基、亞硫酰基、或者磺酰基，A3為單鍵或C1-C10直鏈、支化或環狀的亞烷基，其中醚鍵可介于碳-碳鍵之間，f和g各自獨立地為0-4的整數，h為0或1，j為0-5的整數，并且k為0-2的整數。
2.如權利要求1所述的正型抗蝕劑組合物，其中該聚合物還包含具有式(B2)的重復單元：
其中RA如上所定義，R12各自獨立地為鹵素、任選鹵代的C2-C8直鏈、支化或環狀的酰氧基、任選鹵代的C1-C6直鏈、支化或環狀的烷基、或者任選鹵代的C1-C6直鏈、支化或環狀的烷氧基，A2為單鍵或C1-C10直鏈、支化或環狀的亞烷基，其中醚鍵可介于碳-碳鍵之間，s為0或1，t為0-2的整數，c為滿足：0≤c≤5+2t-e的整數，d為0或1，e為1-3的整數，在e＝1的情況下，X為酸不穩定基團，并且在e＝2或3的情況下，X為氫或酸不穩定基團，至少一個X為酸不穩定基團。
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