6.一種氣體處理方法，其對真空氣氛的處理室內的基板供給處理氣體來進行處理，所述氣體處理方法的特征在于，包括：

在設置于所述處理室中的載置部載置所述基板的步驟；

將所述處理氣體從形成于氣體擴散板的多個氣體噴出孔以噴淋狀噴出的步驟，其中，所述氣體擴散板構成位于所述載置部的上方側的頂部；

使所述處理氣體從多個氣體分散部在橫向上排出并分散于所述擴散空間中的步驟，其中，所述多個氣體分散部在所述氣體擴散板的上方側設置在隔著所述處理氣體的擴散空間與所述氣體擴散板相對的相對部，沿周向分別形成有多個氣體排出口；和

向流路供給所述處理氣體的步驟，其中，所述流路，其上游側形成各所述氣體分散部共用的共用流路，中途分支成多個流路，下游側與各該氣體分散部連接，并且從所述共用流路至各氣體分散部的長度相互一致，

所述氣體分散部以如下布局配置：在俯視所述擴散空間時，所述氣體分散部沿著多個圓配置，且在每一個所述圓上以所述氣體分散部與所述擴散空間的中心部的距離相互不同的方式配置有多個，其中，所述多個圓的中心分別繞該擴散空間的中心部設置，且所述多個圓沿著所述擴散空間的周向配置。