1.一種大氣高危化學品探測的太赫茲自反饋系統，其特征在于，所述自反饋系統包括：

探測裝置，所述探測裝置用于探測大氣高危化學品信息；

機械調節裝置，所述機械調節裝置與所述探測裝置連接，用于調節所述探測裝置的高度及方位，以獲取不同高度及方位的所述大氣高危化學品信息；

移動承載裝置，所述移動承載裝置承載所述機械調節裝置，并帶動所述探測裝置在空間內移動，以獲取不同位置的所述大氣高危化學品信息；

處理器，所述處理器用于處理所述探測裝置所探測到的大氣高危化學品信息，并根據所述大氣高危化學品信息的處理結果反饋、控制所述機械調節裝置調節高度、方位以及所述移動承載裝置移動，并對所述大氣高危化學品信息進行成像處理。

2.根據權利要求1所述的自反饋系統，其特征在于，所述探測裝置包括透射式太赫茲時域系統。

3.根據權利要求2所述的自反饋系統，其特征在于，所述探測裝置上還包括空氣濕度探測器。

4.根據權利要求2所述的自反饋系統，其特征在于，所述太赫茲時域系統包括大氣高危化學品取樣室，所述大氣高危化學品取樣室與外界連通，所述太赫茲時域系統用于對所述取樣室內的高危化學品大氣高危化學品進行探測，獲取所述大氣高危化學品信息。

5.根據權利要求1所述的自反饋系統，其特征在于，所述移動承載裝置包括箱體；所述機械調節裝置安裝在所述移動承載裝置上，所述處理器位于所述箱體內。

6.根據權利要求1所述的自反饋系統，其特征在于，所述機械調節裝置包括伸縮支架和懸臂，所述伸縮支架與所述移動承載裝置連接；所述懸臂一端與所述伸縮支架連接，另一端與所述探測裝置連接。

7.根據權利要求5所述的自反饋系統，其特征在于，所述伸縮支架通過彈簧卡槽與所述懸臂連接，所述彈簧卡槽用于調節所述懸臂進行上下移動，并帶動所述探測裝置進行上下移動。

8.根據權利要求5所述的自反饋系統，其特征在于，所述伸縮支架通過轉軸與所述移動承載裝置連接。

9.根據權利要求7所述的自反饋系統，其特征在于，所述轉軸用于調節所述伸縮支架圍繞轉軸進行360°旋轉，所述伸縮支架通過所述懸臂帶動所述探測裝置進行360°旋轉。

10.根據權利要求1所述的自反饋系統，其特征在于，所述處理器包括數據處理模塊和控制模塊，所述數據處理模塊進行的運算包括對所述大氣高危化學品信息進行的排序運算、泄露源判斷運算、數據擬合運算、圖像疊加運算、坐標重合判斷運算，所述控制模塊用于根據所述數據處理模塊的運算結果對所述大氣高危化學品空間分布探測裝置發出指令，并帶動所述大氣高危化學品空間分布探測裝置進行移動。