[發明專利]一種日光溫室甜櫻桃幼樹期間作西瓜的栽培方法在審
| 申請號: | 201711222731.0 | 申請日: | 2017-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN107810771A | 公開(公告)日: | 2018-03-20 |
| 發明(設計)人: | 聶國偉;李凱;田永強;戴桂林;楊曉華;張曉萍;崔毅勇;高建利;宋永宏;李靜江;陳沖;戴麗蓉;趙武娟;龐傳海;聶鴻飛;楊菁 | 申請(專利權)人: | 山西省農業科學院果樹研究所 |
| 主分類號: | A01G17/00 | 分類號: | A01G17/00;A01G22/05;A01G9/24;A01G13/00;A01C21/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 030031 山*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 日光溫室 櫻桃 幼樹 間作 西瓜 栽培 方法 | ||
1.一種日光溫室甜櫻桃幼樹期間作西瓜的栽培方法,其特征在于:該方法包括以下步驟,
一、良種選擇:日光溫室甜櫻桃品種選用成熟早、品質優良、豐產、抗性強的品種,配置授粉樹,種苗選用根系良好、健康的粗壯大苗進行栽植;西瓜品種耐低溫弱光、抗病、優質、商品性好的品種;
二、栽植方式及時間:甜櫻桃采用挖坑或開溝的方式在春季進行栽植,并在栽植前將底肥施足;西瓜采用將培育的幼苗在甜櫻桃樹行間南北向栽植,并在春季開始升溫后,當棚內溫度升至15℃以上,地溫在7℃以上進行栽植;
三、肥水管理:定植前施足底肥,甜櫻桃樹生長期可適當追施復合肥、多元微肥、氨基酸類葉面肥等,但在生長前期可適當提高氮的比例,生長后期減少氮的使用量而增加磷鉀肥的比例;西瓜在坐果后結合澆水可追施復合肥;栽植后要澆透水,7~10天后再澆一次,甜櫻桃樹8月前要充分灌溉促進幼樹生長,擴大樹冠,8月后要適當控水促使枝條充實,西瓜澆水采用膜下灌溉,澆水原則做到“濕而不澇,干而不旱”;
四、樹形管理:甜櫻桃采用紡錘形樹形,注重冬季修剪和夏季修剪結合,夏季修剪主要包括拉枝、刻芽、扭梢等方法以促使樹形的早日形成并促進花芽形成;西瓜蔓形管理可采用普通田間鋪蔓,也可采用吊蔓管理,將瓜蔓用繩子吊起來,等瓜長至1kg左右時用網袋將瓜吊起,并在結瓜部位上留8~10片葉摘心;
五、溫度管理:扣棚管理時,當外界第一次出現0℃以下低溫時開始覆蓋薄膜和棉被,并通過晝蓋夜揭保持在0~7℃,以秋季日平均溫度穩定通過7.2℃的日期為起點保持在0~7℃的時間達到600小時后開始升溫管理;升溫采用緩慢升溫方式每隔3天升高3℃,最高不超過28℃,采收完當外界溫度逐步和溫室內溫度接近時進行通風鍛煉撤棚膜;
六、輔助授粉:在西瓜開花前一周把蜂箱放入棚室內,或進行人工授粉;
七、病蟲害防治:甜櫻桃主要防治金龜子、舟形毛蟲、梨花網蝽、紅蜘蛛等,西瓜要重點防治枯萎病、白粉病等。
2.根據權利要求1所述的一種日光溫室甜櫻桃幼樹期間作西瓜的栽培方法,其特征在于:所述甜櫻桃的栽植密度為株行距1.5米×3米,且采用挖坑或開溝的方式栽植時,坑和溝的深度、寬度均為80cm。
3.根據權利要求1所述的一種日光溫室甜櫻桃幼樹期間作西瓜的栽培方法,其特征在于:所述西瓜在甜櫻桃樹中間栽2行,行寬60cm,株寬50cm,栽后覆膜并及時澆水。
4.根據權利要求1所述的一種日光溫室甜櫻桃幼樹期間作西瓜的栽培方法,其特征在于:所述日光溫室甜櫻桃的幼樹期為栽樹后的前3年。
5.根據權利要求1所述的一種日光溫室甜櫻桃幼樹期間作西瓜的栽培方法,其特征在于:所述西瓜占地面積為日光溫室總面積的1/3~2/3。
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