[發明專利]一種光刻對準方法在審
| 申請號： | 201710961708.7 | 申請日： | 2017-10-17 |
| 公開（公告）號： | CN109669325A | 公開（公告）日： | 2019-04-23 |
| 發明（設計）人： | 黃濤 | 申請（專利權）人： | 晶能光電（江西）有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 330096 江西省*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻圖形 光刻工序 光刻 對位標記 對準 累積誤差 圖形設計 光刻機 偏移 一對一 基底 良率 制程 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻對準方法，其特征在于，光刻工藝中包括三道或三道以上光刻工序，所述對準方法中包括：
S1在待光刻基底上進行第一道光刻工序得到第一光刻圖形，所述第一光刻圖形中包括下一道光刻工序的對位標記；
S2在所述第一光刻圖形表面進行第二道光刻工序得到第二光刻圖形，所述第二光刻圖形中包括下一道光刻工序的對位標記；
S3在所述第二光刻圖形表面進行第三道光刻工序得到第三光刻圖形，其中，當其不為最后一道光刻工序，則所述第三光刻圖形中包括下一道光刻工序的對位標記，否則不包括下一道光刻工序的對位標記。
2.如權利要求1所述的光刻對準方法，其特征在于，在步驟S1之前包括：
根據光刻工序依次制備光刻板，其中，后一光刻工序使用的光刻板與前一光刻工序的光刻板中包括同一對位標記；
在步驟S1中，具體為：使用第一光刻板在待光刻基底上進行第一道光刻工序得到第一光刻圖形；
在步驟S2中，具體為：使用第二光刻板在所述第一光刻圖形表面進行第二道光刻工序得到第二光刻圖形；
在步驟S3中，具體為：使用第三光刻板在所述第二光刻圖形表面進行第三道光刻工序得到第三光刻圖形。
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