[發明專利]一種彩色濾光片基板及其制作方法有效
| 申請號： | 201710853159.1 | 申請日： | 2017-09-20 |
| 公開（公告）號： | CN107422522B | 公開（公告）日： | 2019-12-13 |
| 發明（設計）人： | 虞曉江 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 44238 深圳匯智容達專利商標事務所(普通合伙) | 代理人： | 潘中毅;熊賢卿 |
| 地址： | 430000 湖北省武漢市武*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 彩色 濾光 片基板 及其 制作方法 | ||
1.一種彩色濾光片基板，其特征在于，包括：
玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的黑色矩陣，所述黑色矩陣邊緣形成至少一個第一環狀凸起；
在形成有所述黑色矩陣的所述玻璃基板上自下而上設置的多個彩色色阻、平坦層和光阻間隔物；
所述平坦層對應所述第一環狀凸起位置形成用于阻止聚酰亞胺薄膜溶液回流的第二環狀凸起，所述光阻間隔物在所述玻璃基板上的投影位于所述第一環狀凸起和所述第二環狀凸起內；以及
涂布在所述平坦層和所述光阻間隔物上的聚酰亞胺薄膜。
2.根據權利要求1所述的彩色濾光片基板，其特征在于，所述黑色矩陣邊緣形成多個第一環狀凸起，多個第一環狀凸起為同心圓。
3.根據權利要求2所述的彩色濾光片基板，其特征在于，所述平坦層對應所述多個第一環狀凸起的位置形成多個第二環狀凸起，所述多個第二環狀凸起為同心圓。
4.一種彩色濾光片基板的制作方法，包括：
在玻璃基板上制作黑色矩陣，在所述黑色矩陣邊緣形成至少一個第一環狀凸起；
依次制作彩色色阻、平坦層和光阻間隔物，所述平坦層對應所述第一環狀凸起位置形成用于阻止聚酰亞胺薄膜溶液回流的第二環狀凸起，所述光阻間隔物在所述玻璃基板上的投影位于所述第一環狀凸起和所述第二環狀凸起內；
在所述平坦層和所述光阻間隔物上涂布聚酰亞胺薄膜。
5.根據權利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述在玻璃基板上制作黑色矩陣，在所述黑色矩陣邊緣形成至少一個第一環狀凸起，具體包括：
在所述玻璃基板上涂布用于制作所述黑色矩陣的光阻層；
采用具有三種透光率的半色調光罩對涂布有所述光阻層的玻璃基板進行曝光；
對曝光后的玻璃基板進行蝕刻，形成圖案化的黑色矩陣以及所述黑色矩陣邊緣上的至少一個第一環狀凸起。
6.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述半色調光罩包括高透光區、半透光區和不透光區，所述高透光區位于所述半色調光罩的兩端，其間為所述半透光區，所述不透光區位于所述半透光區的兩端。
7.根據權利要求6所述的制作方法，其特征在于，在采用具有三種透光率的半色調光罩對涂布有所述光阻層的玻璃基板進行曝光后，在所述光阻層上形成對應所述高透光區的完全反應區、對應所述半透光區的部分反應區和對應所述不透光區的未反應區。
8.根據權利要求7所述的制作方法，其特征在于，對曝光后的玻璃基板進行蝕刻時，所述完全反應區的光阻被完全去除，所述部分反應區的光阻被部分去除，所述未反應區的光阻被保留形成所述第一環狀凸起。
9.根據權利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述半色調光罩設置多個不透光區，經過曝光制程后，所述光阻層對應形成多個未反應區，再經蝕刻后，所述多個未反應區的光阻被保留形成多個第一環狀凸起，所述多個第一環狀凸起為同心圓。
10.根據權利要求9所述的制作方法，其特征在于，在制作所述平坦層時，對應多個第一環狀凸起的位置形成多個第二環狀凸起，所述多個第二環狀凸起為同心圓。
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