[發(fā)明專利]一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710851549.5 | 申請日: | 2017-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN107422521A | 公開(公告)日: | 2017-12-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏雄周;黎敏;劉超;劉華清 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11319 | 代理人: | 莎日娜 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 彩膜基板 及其 制備 方法 顯示 面板 | ||
1.一種彩膜基板的制備方法,其特征在于,包括:
提供基板;
在所述基板上形成各像素單元,其中,所述像素單元包括第一亞像素、第二亞像素和至少兩個第三亞像素,所述第三亞像素的制備材料中包含不可逆溫變顏料;
對所述各像素單元中,所述至少兩個第三亞像素中的選出的一個第三亞像素進(jìn)行變溫處理,使所述選出的第三亞像素變色成為第四亞像素。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在所述基板上形成所述各像素單元的第三亞像素的步驟,包括:
在所述光刻膠中摻雜所述不可逆溫變顏料;
在所述基板上涂覆摻雜后的光刻膠;
利用掩膜版對所述涂覆摻雜后的光刻膠進(jìn)行曝光顯影,獲得所述各像素單元的第三亞像素,其中,所述掩膜版具有第三亞像素和第四亞像素對應(yīng)的掩膜圖案。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述對所述各像素單元中,所述至少兩個第三亞像素中的選出的一個第三亞像素進(jìn)行變溫處理的步驟包括:
利用活字印刷術(shù)式的加熱裝置對所述至少兩個第三亞像素中的選出的一個第三亞像素加熱到設(shè)定溫度,使所述第三亞像素變色成第四亞像素。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述第三亞像素為綠色亞像素;所述第四亞像素為白色亞像素。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述提供基板的步驟包括:
提供基底;
在所述基底上形成黑矩陣;
所述方法還包括:
在所述各像素單元上形成保護(hù)層;
在所述保護(hù)層上形成間隔柱。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述不可逆溫變顏料為含有金屬的酞菁顏料。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述利用活字印刷術(shù)式的加熱裝置對所述至少兩個第三亞像素中的選出的一個第三亞像素加熱到設(shè)定溫度,使所述第三亞像素變色成第四亞像素的步驟包括:
采用加熱層覆蓋在所選出的一個第三亞像素,對加熱層進(jìn)行通電使其進(jìn)行加熱,加熱到設(shè)定溫度,使所述第三亞像素變色成第四亞像素。
8.一種彩膜基板,其特征在于,包括:
基板;
設(shè)置于所述基板上的陣列分布的像素單元,其中,所述像素單元包括:第一亞像素、第二亞像素、第三亞像素和第四亞像素,所述第四亞像素與所述第三亞像素同層設(shè)置,且所述第四亞像素由部分采用不可逆溫變顏料制備的第三亞像素加熱后形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的彩膜基板,其特征在于,所述第三亞像素為綠色亞像素;所述第四亞像素為白色亞像素。
10.一種顯示面板,其特征在于,包括權(quán)利要求8至9所述的彩膜基板。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.17sss.com.cn/pat/books/201710851549.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種自動化磁粉粉末成型壓機(jī)
- 下一篇:一種激光熔融沉積成型裝置
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





