[發明專利]一種在鈮或鈮合金表面制備硅化鈮涂層的方法有效

申請號：	201710792127.5	申請日：	2017-09-05
公開（公告）號：	CN107630184B	公開（公告）日：	2019-11-15
發明（設計）人：	牛亞然;翟翠紅;黃利平;李紅;鄭學斌;孫晉良;丁傳賢	申請（專利權）人：	中國科學院上海硅酸鹽研究所
主分類號：	C23C4/134	分類號：	C23C4/134;C23C4/04;C23C4/18
代理公司：	31261 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙)	代理人：	曹芳玲;鄭優麗<國際申請>=<國際公布>
地址：	200050上***	國省代碼：	上海;31
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摘要：
搜索關鍵詞：	基體表面硅化鈮鈮合金制備等離子體噴涂規?；a 熱處理表面制備可重復性硅涂層硅粉應用
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【權利要求書】：

1.一種在鈮或鈮合金表面制備硅化鈮涂層的方法，其特征在于，以硅粉為原料，采用等離子體噴涂技術在鈮或鈮合金基體表面制備硅涂層，然后置于惰性氣氛中在1000～1500℃下熱處理1～10小時，從而在基體表面形成硅化鈮涂層；所述硅化鈮涂層包括NbSi₂外層、以及位于所述基體和NbSi₂外層之間的Nb₅Si₃過渡層；

所述等離子體噴涂技術的工藝參數包括：等離子體氣體Ar：30～50 slpm；等離子體氣體H₂：6～15 slpm；粉末載氣Ar：2～7 slpm；噴涂距離：100～200 mm；噴涂功率：30～50 kW；送粉速率：10～30 rpm。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述硅粉的粒徑為10～120 μm，純度大于98 wt.%。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基體經過表面噴砂預處理，所述噴砂預處理的壓強為0.1～0.5 MPa。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述硅涂層的厚度為30～300 μm。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的方法，其特征在于，所述惰性氣氛為氬氣。

6.一種根據權利要求1-5中任一項所述方法在基體表面制備的硅化鈮涂層，包括NbSi₂外層、以及位于所述基體和NbSi₂外層之間的Nb₅Si₃過渡層。

7.根據權利要求6所述的硅化鈮涂層，其特征在于，所述Nb₅Si₃過渡層的厚度為5～30 μm。

8.根據權利要求6或7所述的硅化鈮涂層，其特征在于，所述NbSi₂外層的厚度為20～100μm。

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