[發(fā)明專(zhuān)利]制備脆硬金屬微球涂層樣品盤(pán)及其加工方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710581458.4 | 申請(qǐng)日： | 2017-07-17 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107217234B | 公開(kāi)（公告）日： | 2023-06-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉艷松;何智兵;何小珊;陳果;王濤;李朝陽(yáng);許華;李俊;謝春平 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C23C14/18 | 分類(lèi)號(hào)： | C23C14/18;C23C14/06;C23C14/34;C23C14/02 |
| 代理公司： | 成都虹橋?qū)＠聞?wù)所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 楊長(zhǎng)青 |
| 地址： | 621900*** | 國(guó)省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 制備 金屬 涂層 樣品 及其 加工 方法 | ||
1.制備脆硬金屬微球涂層樣品盤(pán)，其特征在于：樣品盤(pán)（1）的內(nèi)表面呈曲面狀，內(nèi)表面呈粗糙狀，內(nèi)表面外側(cè)順次涂鍍有鋁涂層（2）和石墨碳涂層（3），鋁涂層（2）的厚度為1～3μm，石墨碳涂層（3）的厚度為0.2～0.6μm。
2.如權(quán)利要求1所述的制備脆硬金屬微球涂層樣品盤(pán)，其特征在于：所述樣品盤(pán)（1）的內(nèi)表面呈球弧面狀。
3.如權(quán)利要求1所述的制備脆硬金屬微球涂層樣品盤(pán)，其特征在于：所述樣品盤(pán)（1）為石英樣品盤(pán)。
4.制備脆硬金屬微球涂層樣品盤(pán)加工方法，其特征在于：包括以下步驟：
A、對(duì)樣品盤(pán)（1）的內(nèi)表面進(jìn)行粗糙化磨砂處理；
B、將樣品盤(pán)（1）清洗干凈，干燥后置入真空室內(nèi)，采用離子束對(duì)樣品盤(pán)（1）內(nèi)的表面進(jìn)行表面刻蝕清洗處理，再在樣品盤(pán)（1）內(nèi)表面分別濺射涂鍍鋁涂層（2）和石墨碳涂層（3），其中鋁涂層（2）的厚度為1～3μm，石墨碳涂層（3）的厚度為0.2～0.6μm；
C、冷卻至室溫后從真空室內(nèi)取出。
5.制備脆硬金屬微球涂層樣品盤(pán)的加工方法，其特征在于：包括以下步驟：
A、將使用過(guò)的制備脆硬金屬微球涂層樣品盤(pán)放入酸性或堿性溶液進(jìn)行超聲處理，使鋁涂層（2）溶解，脆硬金屬涂層隨之脫落；
B、同上述權(quán)利要求4所述加工方法的B步驟；
C、同上述權(quán)利要求4所述加工方法的C步驟。
6.如權(quán)利要求4或5所述的制備脆硬金屬微球涂層樣品盤(pán)的加工方法，其特征在于：所述樣品盤(pán)（1）的內(nèi)表面呈球弧面狀。
7.如權(quán)利要求4或5所述的制備脆硬金屬微球涂層樣品盤(pán)的加工方法，其特征在于：所述樣品盤(pán)（1）為石英樣品盤(pán)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
