[發(fā)明專利]OLED顯示面板及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710526537.5 | 申請日: | 2017-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN109216409A | 公開(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金鳳杰;彭兆基;高峰;敖偉;王明暉 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜封裝層 凹陷 錨定結(jié)構(gòu) 頂電極 功能層 填充 制備 像素定義層 陰極 抗剪切力 位置偏移 無機(jī)膜層 有機(jī)膜層 粘附能力 膜層 覆蓋 貫穿 | ||
本發(fā)明提供了一種OLED顯示面板及其制備方法。所述OLED顯示面板上設(shè)置了多個凹陷,所述凹陷形成于所述像素定義層上方;所述薄膜封裝層包括第一薄膜封裝層和第二薄膜封裝層,所述第一薄膜封裝層為無機(jī)膜層,所述第二薄膜封裝層為有機(jī)膜層,所述凹陷貫穿所述第一薄膜封裝層、頂電極和功能層,所述第二薄膜封裝層填充所述凹陷并覆蓋所述第一薄膜封裝層,使薄膜封裝層填充凹陷形成錨定結(jié)構(gòu),采用該錨定結(jié)構(gòu)有效增強(qiáng)了薄膜封裝層和頂電極之間的粘附能力,可提高OLED顯示面板的抗剪切力,減少或避免薄膜封裝層與陰極之間以及功能層內(nèi)部各膜層之間出現(xiàn)分離或位置偏移。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種OLED顯示面板及其制備方法。
背景技術(shù)
近年來,作為一種新的平板顯示器,有機(jī)電致發(fā)光顯示器受到越來越多的關(guān)注。有機(jī)電致發(fā)光顯示器的核心部件是有機(jī)電致發(fā)光器件(OLED,亦稱為有機(jī)發(fā)光二極管)。OLED發(fā)光原理是在一定電壓驅(qū)動下,電子和空穴分別從陰極和陽極注入到電子傳輸層和空穴傳輸層,電子和空穴分別經(jīng)過電子傳輸層和空穴傳輸層遷移到發(fā)光層,并在發(fā)光層中相遇,形成激子并使發(fā)光分子激發(fā),經(jīng)過輻射弛豫而發(fā)出可見光。
OLED顯示面板的特點(diǎn)是輕薄、寬視角、功耗低、響應(yīng)速度快、可實(shí)現(xiàn)柔性顯示等。由于其是主動發(fā)光型器件,在顯示高清晰高速度視頻方面被認(rèn)為具有很大的優(yōu)勢,并且最近幾年正朝著實(shí)用的方向發(fā)展。然而,由于OLED顯示面板中起到發(fā)光功能的發(fā)光層,對水汽和氧氣等外部環(huán)境因素十分敏感,如果將OLED顯示面板暴露在有水汽或者氧氣的環(huán)境中,會使得器件性能急劇下降或者完全損壞。為了提高OLED的使用壽命和器件的穩(wěn)定性,需要通過良好的封裝來隔絕周圍的水汽和氧氣。
傳統(tǒng)的玻璃蓋板或金屬蓋板封裝已經(jīng)實(shí)現(xiàn)較好的效果,但不能完全適用于一些重要或有潛力的應(yīng)用場合,比如頂發(fā)射OLED顯示技術(shù)、柔性O(shè)LED顯示技術(shù)或柔性O(shè)PV等。為此業(yè)界開發(fā)了薄膜封裝技術(shù),采用一層或多層薄膜阻隔水氧,不遮擋光出射或入射的路徑,也不影響襯底的可彎曲性。但發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn),薄膜封裝層與陰極之間的粘附力較弱,尤其是在柔性顯示面板彎折過程中,薄膜封裝層與陰極之間以及功能層內(nèi)部各膜層之間甚至出現(xiàn)卷曲、開裂的現(xiàn)象,導(dǎo)致阻隔水氧的能力下降,影響了發(fā) 光層的性能,進(jìn)而影響了OLED顯示面板的壽命與性能。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,解決OLED顯示面板中薄膜封裝層與陰極之間以及功能層內(nèi)部各膜層之間出現(xiàn)分離或位置偏移的問題。
為了解決上述問題,一方面,提供一種OLED顯示面板,包括基板以及形成于所述基板上的底電極、像素定義層、功能層、頂電極和薄膜封裝層;所述像素定義層形成有若干像素開口,位于所述像素開口內(nèi)的底電極、功能層以及頂電極構(gòu)成像素單元;所述OLED顯示面板上還形成有若干凹陷,所述凹陷形成于所述像素定義層上方;所述薄膜封裝層包括第一薄膜封裝層和第二薄膜封裝層,所述第一薄膜封裝層為無機(jī)膜層,所述第二薄膜封裝層為有機(jī)膜層,所述凹陷貫穿所述第一薄膜封裝層、頂電極和功能層,所述第二薄膜封裝層填充所述凹陷并覆蓋所述第一薄膜封裝層。
可選的,所述OLED顯示面板還包括形成于所述基板上的平坦化層,所述底電極形成于所述平坦化層上;所述凹陷還貫穿部分厚度或全部厚度的像素定義層,或者,所述凹陷還貫穿全部厚度的像素定義層以及部分厚度或全部厚度的平坦化層。
可選的,所述凹陷為垂直孔。
可選的,所述凹陷靠近基板的一端的截面寬度大于其遠(yuǎn)離基板的一端的截面寬度。
可選的,所述凹陷靠近基板的一端的截面寬度小于其遠(yuǎn)離基板的一端的截面寬度。
可選的,至少部分像素單元周圍的像素定義層處形成有所述凹陷。
可選的,每個像素單元周圍的像素定義層處形成有一個或多個所述凹陷。
可選的,所述OLED顯示面板還包括形成于所述基板上并包圍所述像素單元的堤壩,所述堤壩中形成有若干堤壩開口。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





