[發明專利]一種離子注入裝置及其使用方法在審
| 申請號： | 201710507343.0 | 申請日： | 2017-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN107359100A | 公開（公告）日： | 2017-11-17 |
| 發明（設計）人： | 王玉添 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/08 | 分類號： | H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280 | 代理人： | 鐘子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 離子 注入 裝置 及其 使用方法 | ||
1.一種離子注入裝置，其特征在于，所述裝置包括：
主離子源、至少一個備用離子源、用于改變接入的離子源種類的離子源切換裝置及用于使所述備用離子源和/或主離子源發射的離子進入篩選裝置的離子通道。
2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述離子通道包括：
用于連接所述主離子源和所述篩選裝置的第一離子通道及用于連接所述第一離子通道和所述備用離子源的第二離子通道。
3.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述備用離子源發射的離子與所述主離子源發射的離子進入所述篩選裝置的速度相同。
4.如權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述第二離子通道設有離子方向改變裝置。
5.如權利要求4所述的裝置，其特征在于，所述離子方向改變裝置為磁鐵或線圈，所述離子源切換裝置為閥門。
6.如權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述磁鐵或線圈與所述篩選裝置中的篩選磁鐵或線圈具有相同的曲率半徑。
7.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述主離子源和所述至少一個備用離子源位于同一個真空環境中或各自獨立的真空環境中。
8.一種離子注入裝置的使用方法，其特征在于，包括：
改變離子源切換裝置的工作狀態，每一所述工作狀態對應使用不同的離子源；
備用離子源和/或主離子源發射的離子在所述工作狀態下通過離子通道進入篩選裝置。
9.如權利要求8所述的方法，其特征在于，所述備用離子源和/或主離子源發射的離子通過離子通道進入篩選裝置的方法包括：
當將所述離子源切換裝置工作狀態改變至開啟時，所述第一離子通道與所述第二離子通道連通；
在所述第二離子通道中，離子方向改變裝置改變所述備用離子源發射的離子的方向，并得到改變方向后的離子；
所述改變方向后的離子進入所述第一離子通道后進入篩選裝置；
當將所述離子源切換裝置工作狀態改變至關閉時，所第一離子通道與所述第二離子通道不連通；
所述主離子源發射的離子進入所述第一離子通道后進入篩選裝置；
其中，所述方法實現過程中所述離子注入裝置不停機。
10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，所述備用離子源和/或主離子源發射的離子在所述第一離子通道中做勻速直線運動。
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