[發(fā)明專利]拋光方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710439550.7 | 申請日： | 2017-06-12 |
| 公開（公告）號： | CN107309710A | 公開（公告）日： | 2017-11-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 趙慧佳;路新春;沈攀 | 申請（專利權(quán)）人： | 天津華海清科機電科技有限公司;清華大學(xué) |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11201 | 代理人： | 黃德海 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 國省代碼： | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 拋光 方法 | ||
1.一種拋光方法，其特征在于，所述拋光方法包括：
將兩片待拋光物的待拋光面對向放置并在兩個待拋光面之間放入拋光液，使兩個待拋光物相對移動進行拋光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光方法，其特征在于，拋光過程中兩個所述待拋光物分別自轉(zhuǎn)和相對平移。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物每分鐘進行10到20次相對平移。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光面均為圓形，且一個所述待拋光物最大平移距離不小于所述待拋光面直徑的兩倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物相對平移過程中添加所述拋光液。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物的自轉(zhuǎn)速度不同和/或自轉(zhuǎn)方向相反。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物的自轉(zhuǎn)速度均為50rpm～160rpm且自轉(zhuǎn)方向相反。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物相對平移的同時各自自轉(zhuǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項所述的拋光方法，其特征在于，所述拋光液的磨料包括金剛石、碳化硅、碳化硼、氧化鋁以及氧化硅中的至少一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項所述的拋光方法，其特征在于，所述拋光液中磨料的比例為5％～20％。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于天津華海清科機電科技有限公司;清華大學(xué)，未經(jīng)天津華海清科機電科技有限公司;清華大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.17sss.com.cn/pat/books/201710439550.7/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：一種用于在線監(jiān)測氣門孔厚度的裝置
- 下一篇：鋁板表面處理工藝
