[發明專利]彩膜基板偏光片、基板、顯示面板及制備方法在審
| 申請號: | 201710064201.1 | 申請日: | 2017-02-04 |
| 公開(公告)號: | CN106873233A | 公開(公告)日: | 2017-06-20 |
| 發明(設計)人: | 劉利萍;董春壘;高歡;韓君奇;李靜 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙)11201 | 代理人: | 趙天月 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 彩膜基板 偏光 基板 顯示 面板 制備 方法 | ||
1.一種彩膜基板偏光片,其特征在于,所述彩膜基板偏光片表面設置有金屬擋光圖案。
2.根據權利要求1所述的彩膜基板偏光片,其特征在于,所述金屬擋光圖案為金屬網格,所述金屬網格包括多個行金屬線以及多個列金屬線,所述多個行金屬線互相平行,所述多個列金屬線互相平行。
3.根據權利要求2所述的彩膜基板偏光片,其特征在于,所述行金屬線的寬度不大于20微米;
所述列金屬線的寬度不大于10微米。
4.一種彩膜基板,其特征在于,包括:
彩膜基板襯底;
彩色矩陣,所述彩色矩陣設置在所述彩膜基板襯底的表面;以及
彩膜基板偏光片,所述彩膜基板偏光片設置在所述彩膜基板襯底遠離所述彩色矩陣一側的表面,并且所述彩膜基板偏光片包括金屬擋光圖案;
其中,所述金屬擋光圖案設置在所述彩色矩陣的漏光區域。
5.根據權利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩色矩陣包括多個子像素,所述多個子像素間隔設置且呈矩陣排列,位于同一行且相鄰的兩個所述子像素之間的距離為-5-10微米,位于同一列且相鄰的兩個所述子像素之間的距離為-10-20微米。
6.根據權利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述金屬擋光圖案設置在所述彩膜基板偏光片遠離所述彩膜基板襯底一側的表面上。
7.一種液晶顯示面板,其特征在于,包括:
彩膜基板,所述彩膜基板為權利要求4-6任一項所述的;
矩陣基板,所述矩陣基板與所述彩膜基板相對設置;
液晶層,所述液晶層設置在所述彩膜基板以及所述矩陣基板之間。
8.一種制備權利要求7所述的液晶顯示面板的方法,其特征在于,包括:
提供矩陣基板;
提供彩膜基板半成品,所述彩膜基板半成品包括彩膜基板襯底、彩色矩陣以及彩膜基板偏光結構,所述彩膜基板偏光結構設置在所述彩膜基板襯底遠離所述彩色矩陣一側的表面上;
將所述矩陣基板以及所述彩膜基板半成品相對設置,填充液晶分子形成液晶層并進行封框處理;
在所述彩膜基板偏光結構遠離所述彩膜基板襯底一側的表面上形成金屬擋光圖案,以便形成所述液晶顯示面板,所述金屬擋光圖案與所述彩膜基板半成品的漏光區域對應設置。
9.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述金屬擋光圖案是通過以下步驟實現的:
依據L0信號模擬點燈,以便在所述彩膜基板半成品的表面確定所述漏光區域;
在所述漏光區域形成所述金屬擋光圖案。
10.根據權利要求9所述的方法,其特征在,在所述漏光區域形成所述金屬擋光圖案是通過以下步驟實現的:
在所述彩膜基板偏光結構遠離所述彩膜基板襯底一側的表面上沉積金屬層;
在所述金屬層遠離所述彩膜基板偏光結構一側的表面涂覆光刻膠層;
利用所述光刻膠層,在所述漏光區域形成刻蝕模板;以及
基于所述刻蝕模板,對所述金屬層進行刻蝕,以便形成所述金屬擋光圖案。
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