[發明專利]液體排出頭和液體排出設備有效
| 申請號: | 201710014966.4 | 申請日: | 2017-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN106985542B | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發明(設計)人: | 笠井信太郎;中川喜幸;齊藤亞紀子;守屋孝胤;石田浩一;山田辰也;巖永周三;戶塚絢子;石綿友樹;佐藤智厚 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | B41J2/195 | 分類號: | B41J2/195 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液體 出頭 排出 設備 | ||
1.一種液體排出頭,包括:
記錄元件基板,其中在所述記錄元件基板的第一面上設置有多個記錄元件,所述多個記錄元件用于生成用以排出液體的能量,
其特征在于,還包括:
分隔壁,其配置在相鄰的記錄元件之間;
排出口,其是與所述記錄元件相對應地設置的;
壓力室,其由所述分隔壁進行劃分并且內部具有所述記錄元件;
排出口行,其中在所述排出口行中排列有多個所述排出口;
液體供給通道,其被作為槽設置到所述記錄元件基板的位于所述第一面的相反側上的第二面,并且用于向多個所述壓力室供給液體;
多個供給口,其在所述第一面和所述液體供給通道之間連通,并且用于從所述液體供給通道向所述壓力室供給液體;以及
蓋,其設置在覆蓋所述液體供給通道的所述第二面上,并且具有用于向所述液體供給通道供給液體的供給側開口,
其中,在從所述排出口排出液體之后向所述壓力室補給液體的過程中,以下兩個壓力下降的總和P1為5000Pa以下:從任意的供給側開口起、直到與該供給側開口連通且位于離該供給側開口最遠的位置處的供給口為止的所述液體供給通道上的液體的壓力下降;以及位于離該供給側開口最遠的位置處的供給口的液體的壓力下降。
2.根據權利要求1所述的液體排出頭,其中,
在以下表達式的情況下,合成壓力下降ΔP為5000Pa以下:
其中:Ri表示在從所述供給側開口的位置起的第i個供給口與第i+1個供給口之間流經所述液體供給通道的液體的粘性阻抗;r表示流經所述供給口的液體的粘性阻抗;Q表示流經各個所述供給口的液體的流量;q表示流經所述供給側開口的液體的量;以及n表示從所述供給側開口起直到位于離該供給側開口最遠的位置處的供給口為止的區間內所包括的供給口的數量。
3.根據權利要求1所述的液體排出頭,其中,
排列有多個所述供給口,以及
在以下表達式的情況下,合成壓力下降ΔP為5000Pa以下:
其中:R表示流經在相互相鄰的供給口之間連通的所述液體供給通道的液體的粘性阻抗;r表示流經所述供給口的液體的粘性阻抗;Q表示流經各個所述供給口的液體的流量;以及n表示從所述供給側開口起直到位于離該供給側開口最遠的位置處的供給口為止的區間內所包括的供給口的數量。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的液體排出頭,其中,
所述液體供給通道在與液體流動的方向垂直的方向上的截面的形狀為矩形,并且在所述液體供給通道的至少一個區間中,所述液體供給通道的深度是所述液體供給通道的寬度的兩倍以上。
5.根據權利要求1至3中任一項所述的液體排出頭,其中,
離所述供給側開口的位置越遠,所述液體供給通道在與液體流動的方向垂直的方向上的截面面積越小。
6.根據權利要求1至3中任一項所述的液體排出頭,其中,
所述液體排出頭包括排列有所述排出口的多個排出口行。
7.根據權利要求1至3中任一項所述的液體排出頭,其中,
所述液體供給通道是與所述排出口行延伸的方向平行地設置的。
8.根據權利要求1至3中任一項所述的液體排出頭,其中,
所述供給側開口相對于所述液體供給通道的延伸方向設置得比所述液體供給通道的兩端所配置的供給口更靠近所述延伸方向的中心。
9.根據權利要求1至3中任一項所述的液體排出頭,其中,還包括:
液體回收通道,其被作為槽設置在所述第二面上,并且用于從多個所述壓力室回收液體;
多個回收口,其在所述第一面和所述液體回收通道之間連通,并且用于將液體從所述壓力室回收到所述液體回收通道;以及
回收側開口,其設置到所述蓋,并且用于從所述液體回收通道回收液體。
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