[實用新型]一種用于制備發光器件的打印設備、打印基板及打印系統有效
| 申請號： | 201620667857.3 | 申請日： | 2016-06-24 |
| 公開（公告）號： | CN205705757U | 公開（公告）日： | 2016-11-23 |
| 發明（設計）人： | 彭軍軍 | 申請（專利權）人： | 納晶科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B41J2/01 | 分類號： | B41J2/01;B41J3/407 |
| 代理公司： | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 湯東鳳 |
| 地址： | 310052 浙江省杭州市濱*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 制備 發光 器件 打印 設備 系統 | ||
【說明書】：
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