[實(shí)用新型]廢水處理設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201620056855.0 | 申請日: | 2016-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN205328790U | 公開(公告)日: | 2016-06-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳小江 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市美宜佳機(jī)電設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/12 | 分類號: | C02F9/12 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吳開磊 |
| 地址: | 518100 廣東省深圳市寶安區(qū)西鄉(xiāng)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 廢水處理 設(shè)備 | ||
1.一種廢水處理設(shè)備,其特征在于,包括:洗滌單元、廢水 儲存單元、廢水處理單元、廢水輸送單元及中央控制器,所述洗滌 單元通過管道與所述廢水存儲單元連接,所述洗滌單元產(chǎn)生的廢水 通過所述管道傳輸?shù)剿鰪U水存儲單元,所述廢水存儲單元通過所 述廢水輸送單元與所述廢水處理單元連接,所述廢水存儲單元中存 儲的所述廢水經(jīng)由所述廢水輸送單元傳輸?shù)剿鰪U水處理單元中, 所述廢水處理單元對所述廢水進(jìn)行廢水處理,所述中央控制器分別 與所述洗滌單元、廢水儲存單元、廢水處理單元及廢水輸送單元連 接,用于控制所述廢水的處理過程;
其中,當(dāng)所述廢水儲存單元中所述廢水的液位高度達(dá)到一預(yù)設(shè) 液位閾值高度時,所述中央控制器控制所述洗滌單元停止進(jìn)水。
2.如權(quán)利要求1所述的廢水處理設(shè)備,其特征在于,所述洗 滌單元包括:上水龍頭、洗槽及上水控制閥,所述上水龍頭設(shè)置于 所述洗槽的上方位置,所述上水控制閥設(shè)置于連接所述上水龍頭的 上水管道上,所述上水控制閥用于控制所述上水管道的開啟或者關(guān) 閉。
3.如權(quán)利要求2所述的廢水處理設(shè)備,其特征在于,所述廢 水存儲單元包括:廢水存儲箱、第一液位檢測器及攪拌器,所述第 一液位檢測器設(shè)置于所述廢水存儲箱內(nèi)用于檢測所述廢水存儲箱 中所述廢水的液位高度,所述攪拌器設(shè)置于所述廢水存儲箱內(nèi)用于 對所述廢水存儲箱內(nèi)的所述廢水進(jìn)行攪拌。
4.如權(quán)利要求3所述的廢水處理設(shè)備,其特征在于,所述廢 水處理單元包括:廢水處理箱、處理液添加子單元、光催化反應(yīng)器、 超聲波處理子單元、磁化處理子單元、曝氣攪拌子單元及沉淀物分 離子單元;所述處理液添加子單元通過管道與所述廢水處理箱連接 用于為所述廢水處理箱內(nèi)添加處理液;所述光催化反應(yīng)器設(shè)置于所 述廢水處理箱內(nèi)部用于對所述廢水處理箱內(nèi)部的所述廢水進(jìn)行光 催化反應(yīng);所述超聲波處理子單元設(shè)置于所述廢水處理箱內(nèi)部用于 對所述廢水處理箱內(nèi)部的所述廢水進(jìn)行超聲波處理及對光催化反 應(yīng)器進(jìn)行潔凈處理;所述磁化處理子單元設(shè)置于所述廢水處理箱內(nèi) 部用于對所述廢水處理箱內(nèi)部的所述廢水進(jìn)行磁化處理;所述曝氣 攪拌子單元設(shè)置于所述廢水處理箱內(nèi)部用于對所述廢水處理箱內(nèi) 部的所述廢水進(jìn)行攪拌及曝氣處理;所述沉淀物分離子單元設(shè)置于 所述廢水處理箱外部用于將經(jīng)過所述廢水處理箱處理后的廢水進(jìn) 行沉淀物與清液的分離。
5.如權(quán)利要求3所述的廢水處理設(shè)備,其特征在于:所述上 水控制閥與所述第一液位檢測器分別與所述中央控制器連接,當(dāng)所 述第一液位檢測器檢測到所述廢水存儲箱中所述廢水高度超過所 述預(yù)設(shè)液位閾值高度時,所述控制器控制所述上水控制閥關(guān)閉;當(dāng) 所述第一液位檢測器檢測到所述廢水存儲箱中所述廢水高度小于 所述預(yù)設(shè)液位閾值高度時,所述控制器控制所述上水控制閥打開。
6.如權(quán)利要求4所述的廢水處理設(shè)備,其特征在于:所述處 理液添加子單元、光催化反應(yīng)器、超聲波處理子單元、磁化處理子 單元、曝氣攪拌子單元及沉淀物分離子單元分別與所述中央控制器 連接,所述中央控制器控制所述處理液添加子單元、光催化反應(yīng)器、 超聲波處理子單元、磁化處理子單元、曝氣攪拌子單元及沉淀物分 離子單元的工作狀態(tài)。
7.如權(quán)利要求1所述的廢水處理設(shè)備,其特征在于:所述廢 水輸送單元在所述洗滌單元與所述廢水儲存單元之間的連接部分 設(shè)置有一存水灣。
8.如權(quán)利要求4所述的廢水處理設(shè)備,其特征在于,還包括: 平衡氣壓管道,所述平衡氣壓管道將所述廢水處理箱與公共排水系 統(tǒng)連通。
9.如權(quán)利要求4所述的廢水處理設(shè)備,其特征在于,還包括: 顯示面板及PH值檢測器,所述PH值檢測器放置于所述廢水處理 箱的所述廢水中,所述顯示面板用于顯示所述PH值檢測器檢測的 PH值。
10.如權(quán)利要求4所述的廢水處理設(shè)備,其特征在于,還包括: 報(bào)警器,所述報(bào)警器設(shè)置于所述廢水處理設(shè)備上,所述報(bào)警器與所 述中央控制器連接,當(dāng)廢水處理過程偏離預(yù)設(shè)條件時,所述中央控 制器控制所述報(bào)警器發(fā)出報(bào)警信息。
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