1.一種加熱組件，包括殼體、至少一個加熱元件和至少一個連接件，所述加熱元件設(shè)置于所述殼體內(nèi)，所述連接件位于所述殼體的外壁，所述連接件與所述殼體相組裝，所述連接件包括槽和槽壁，所述槽壁位于所述槽的周側(cè)，所述槽壁的至少一部分向外凹陷，所述加熱組件包括至少一個腔，所述腔包括所述槽壁和所述殼體的外壁之間的空間，所述連接件包括第一接口和第二接口，所述第一接口與所述腔連通，所述第二接口與所述腔連通，所述第一接口與所述第二接口通過所述腔連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱組件，其特征在于：所述殼體為多邊體，所述外壁位于所述殼體的至少一側(cè)；或者所述殼體為圓柱體，所述外壁位于所述殼體的至少一部分弧面；

所述連接件包括固定壁，所述槽壁包括端部，該端部形成所述槽的槽口，所述固定壁的至少一部分與所述槽壁的端部一體連接，所述固定壁的至少一部分與所述殼體的外壁相對抵靠，所述固定壁與所述殼體的外壁相組裝且兩者之間密封設(shè)置；所述第一接口、第二接口貫穿所述槽壁。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的加熱組件，其特征在于：所述加熱組件包括擾流部，所述擾流部位于所述腔內(nèi)部，且所述擾流部位于所述第一接口對應(yīng)的所述腔位置與所述第二接口對應(yīng)的所述腔位置之間的區(qū)域；

所述擾流部為凸起形式，所述擾流部凸起于所述槽壁或者所述外壁中的至少一者；

和/或所述擾流部為條狀結(jié)構(gòu)，所述擾流部的至少一側(cè)與所述槽壁的至少一部分一體設(shè)置，所述擾流部的至少另一側(cè)與所述槽壁的至少一部分不接觸，所述加熱組件包括連通區(qū)，所述連通區(qū)位于所述擾流部的至少另一側(cè)與所述槽壁之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的加熱組件，其特征在于：所述槽壁至少包括側(cè)壁和底壁，所述槽壁的端部位于所述側(cè)壁，所述底壁與所述外壁相對設(shè)置，所述側(cè)壁包括第一端部和第二端部，沿著所述加熱組件的中心向外的徑向方向，所述第二端部位于所述第一端部的外部，所述第一端部與所述外壁相對抵靠，所述第二端部與所述底壁一體連接，所述腔包括所述側(cè)壁、底壁與所述殼體的外壁之間的空間；所述第一接口位于所述側(cè)壁或所述底壁；所述第二接口位于所述側(cè)壁或所述底壁；

或者所述槽壁的至少一部分向外凹陷形成弧形，所述槽壁的端部形成所述槽的槽口。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的加熱組件，其特征在于：所述擾流部為凸起形式，所述擾流部位于所述底壁，沿加熱組件的徑向方向，所述擾流部的凸起方向朝向所述外壁所在側(cè)，所述擾流部的凸起高度等于或略小于所述底壁與所述殼體的外壁之間的距離；或者所述擾流部位于所述側(cè)壁，所述擾流部錯開設(shè)置，所述擾流部沿所述加熱組件徑向方向的高度等于或略小于所述底壁與所述殼體的外壁之間的距離；或者所述擾流部位于所述殼體的外壁，所述擾流部自所述殼體的外壁向外延伸，所述擾流部的凸起方向朝外，且所述擾流部的端部與所述底壁相對抵靠；

或者所述擾流部為條狀結(jié)構(gòu)，所述側(cè)壁具有相對設(shè)置的第一側(cè)部和第二側(cè)部，所述擾流部自所述第一側(cè)部向所述第二側(cè)部延伸，且不與所述第二側(cè)部接觸，所述連通區(qū)位于所述擾流部的端部與所述第二側(cè)部之間；和/或所述擾流部自所述第二側(cè)部向所述第一側(cè)部延伸，且不與所述第一側(cè)部接觸，所述連通區(qū)位于所述擾流部的端部與所述第一側(cè)部之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求2-5中任一項所述的加熱組件，其特征在于：所述加熱組件包括密封元件，所述密封元件設(shè)置于所述固定壁與所述殼體的外壁之間，所述固定壁與所述殼體的外壁通過所述密封元件密封設(shè)置；

所述固定壁設(shè)置有至少一個定位槽，所述定位槽位于所述槽壁的端部周圍，所述密封元件位于所述定位槽；

和/或所述殼體的外壁設(shè)置有至少一個定位槽，沿垂直所述外壁的壁面的方向，所述定位槽位于所述槽壁的端部在所述外壁上的投影的周圍，所述密封元件位于所述定位槽。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項所述的加熱組件，其特征在于：所述槽壁包括端部，該端部形成所述槽的槽口，所述連接件包括限位凸部，所述限位凸部圍繞在所述槽壁的端部周圍，且所述殼體的外壁設(shè)置有限位凹部，所述限位凹部與所述限位凸部配合連接；

或者所述殼體的外壁設(shè)置有限位凸部，沿垂直所述外壁的壁面的方向，所述限位凸部圍繞在所述槽壁的端部在所述外壁上的投影的周圍，且所述連接件包括限位凹部，所述限位凹部與所述限位凸部配合連接。