[發(fā)明專利]一種硅基硫化鋅異質(zhì)結(jié)太陽電池及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611205458.6 | 申請日: | 2016-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN106784112A | 公開(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 沈輝;邱開富;邱德鵬;謝琦;蔡倫;吳偉梁 | 申請(專利權(quán))人: | 中山大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/074 | 分類號: | H01L31/074;H01L31/0336;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣州知友專利商標(biāo)代理有限公司44104 | 代理人: | 李海波,劉艷麗 |
| 地址: | 510275 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 硫化鋅 異質(zhì)結(jié) 太陽電池 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于異質(zhì)結(jié)太陽電池技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種硅基硫化鋅異質(zhì)結(jié)太陽電池及其制備方法。
背景技術(shù)
太陽能是人類取之不盡,用之不竭的可再生能源,同時(shí)也是不產(chǎn)生任何環(huán)境污染的清潔能源。充分有效地利用太陽能,對于解決能源短缺及環(huán)境污染有著重要的意義。
不管是常規(guī)晶體硅太陽電池還是高效晶體硅太陽電池,都需經(jīng)過高溫?cái)U(kuò)散工藝制備pn結(jié),由此將給晶體硅帶來晶格損傷和各種缺陷,引入復(fù)合中心從而降低太陽電池效率。采用非晶硅與晶體硅結(jié)合形成的pn異質(zhì)結(jié)太陽電池則無需高溫工藝,可在低于300℃的條件下制備。1983年Koji Okuda等人采用非晶硅和多晶硅疊層結(jié)構(gòu)在200-300℃條件下制備了效率超過12%的異質(zhì)結(jié)太陽電池。1992年三洋機(jī)電的Makoto Tanaka等人在非晶硅與晶體硅層之間插入了一層本征非晶硅層,在低于200℃的條件下制備了效率超過18%的異質(zhì)結(jié)太陽電池,此電池就是如今的HIT(Heterojunction with Intrinsic Thin-Layer)太陽電池。
HIT太陽電池經(jīng)過多年的研究,取得了25.6%的世界最高效率。近年來國內(nèi)對于HIT太陽電池的研究越來越多,制備出來的電池效率相比三洋機(jī)電的電池效率還有一定差距。HIT電池難點(diǎn)在于無法制備出性能優(yōu)良的本征非晶硅層。而且由于非晶硅的寄生吸收,導(dǎo)致HIT太陽電池的短路電流比其他高效太陽電池的更小。因此需要另辟蹊徑尋找一種寄生吸收小的新材料與晶體硅結(jié)合形成異質(zhì)結(jié)制備高效太陽電池。
ZnS是重要Ⅱ-Ⅵ族直接帶隙半導(dǎo)體,具有兩種晶體結(jié)構(gòu),α-ZnS的晶體結(jié)構(gòu)為纖鋅礦結(jié)構(gòu),室溫下光學(xué)帶隙為3.9eV;β-ZnS為閃鋅礦結(jié)構(gòu),室溫下光學(xué)帶隙為3.6eV,于1020℃轉(zhuǎn)化為α型。ZnS具有較高的激子束縛能(40meV),在短波長半導(dǎo)體激光器、發(fā)光二極管、紫外光電探測器等短波長光電器件領(lǐng)域有巨大的潛在應(yīng)用價(jià)值。目前ZnS在太陽電池領(lǐng)域的應(yīng)用主要是利用其無毒無污染的特性替代CdS用在CIGS薄膜太陽電池中用作緩沖層,目前采用ZnS作為緩沖層的CIGS太陽電池的世界最高效率為18%;另外ZnS也作為光電陽極應(yīng)用在染料敏化太陽電池中。
閃鋅礦結(jié)構(gòu)的ZnS晶格常數(shù)為0.541nm,與晶體硅的晶格常數(shù)(0.543nm),晶格失配小,與晶體硅可以形成很好的異質(zhì)結(jié)。硫化鋅屬于寬帶隙低功函數(shù)材料,對可見光的吸收小,能減小寄生吸收;硫化鋅成本低廉,制備簡單,無毒無污染。
現(xiàn)有技術(shù)中硫化鋅還幾乎沒有應(yīng)用在異質(zhì)結(jié)太陽電池當(dāng)中,實(shí)驗(yàn)室研究中偶有涉及類似結(jié)構(gòu)的電池方面,但硫化鋅厚度大,性能較差。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的第一個(gè)技術(shù)問題是提供一種硅基硫化鋅異質(zhì)結(jié)太陽電池,該太陽電池中各層厚度尤其是硫化鋅厚度較薄,電池的性能有了明顯的提升。
本發(fā)明所要解決的第二個(gè)技術(shù)問題是提供上述硅基硫化鋅異質(zhì)結(jié)太陽電池的制備方法,該制備方法成本和能耗低,避免了高溫過程。
本發(fā)明所要解決的第一個(gè)技術(shù)問題是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的:一種硅基硫化鋅異質(zhì)結(jié)太陽電池,所述硅基硫化鋅異質(zhì)結(jié)太陽電池的結(jié)構(gòu)為銀前電極/氫摻雜AZO透明導(dǎo)電膜/硫化鋅薄膜/硅基體/鋁背場/鋁電極,所述硫化鋅薄膜為n型硫化鋅發(fā)射極,所述硅基體為p型單晶硅,所述n型硫化鋅發(fā)射極與所述p型單晶硅形成異質(zhì)結(jié)太陽電池。
所述銀前電極的厚度優(yōu)選為300~1000nm,所述氫摻雜AZO透明導(dǎo)電膜的厚度優(yōu)選為80~280nm,所述硫化鋅薄膜的厚度優(yōu)選為10~150nm,所述鋁背場/鋁電極的厚度優(yōu)選為1~5μm。
其中采用氫摻雜AZO(摻鋁氧化鋅)透明導(dǎo)電膜具有更低的電阻率以及更高的透過率,用做電池的透明導(dǎo)電膜可以減小電池的串阻,增大電池的短路電流,從而提高電池效率。同樣,采用Ag作為前電極的導(dǎo)電性比采用Al作為前電極好很多。
其中各層的厚度,對于電池的性能影響很大,主要是各層的厚度尤其是硫化鋅薄膜的厚度影響電池的串聯(lián)電阻和填充因子,從而影響電池的效率。
本發(fā)明將硫化鋅薄膜與硅襯底(優(yōu)選p型單晶硅基體,尤其是(100)晶向的p型單晶硅襯底)相結(jié)合,在p型(100)晶向的單晶硅襯底上沉積硫化鋅薄膜,形成ZnS(n)/c-Si(p)異質(zhì)結(jié)太陽電池,硫化鋅作為發(fā)射極的同時(shí)還作為窗口層,可以減少寄生吸收,增加電池量子效率,從而提高短路電流。硫化鋅與硅晶格匹配好,界面態(tài)缺陷少可以減小界面復(fù)合增大開壓。而且能夠低溫形成p-n結(jié),節(jié)約能源,硫化鋅本身價(jià)格低廉,制備簡單,而且無毒無污染,是一種潛在的高效太陽電池。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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