[發(fā)明專利]用于外形尺寸的光學測量方法和測量裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611121014.4 | 申請日： | 2016-12-08 |
| 公開（公告）號： | CN106885522A | 公開（公告）日： | 2017-06-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 三木豊 | 申請（專利權）人： | 株式會社三豐 |
| 主分類號： | G01B11/02 | 分類號： | G01B11/02;G01B11/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所11105 | 代理人： | 曲瑩 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 外形尺寸 光學 測量方法 測量 裝置 | ||
1.一種用于測量被測物體的外形尺寸的光學測量方法，該方法包括：
提供發(fā)射由平行光束構成的帶狀測量光束的光發(fā)射器，其中在該測量光束中至少限定主測量光束和次測量光束；
提供反射測量光束并形成反射光束的反射器，其中在反射光束中至少限定主反射光束和次反射光束，所述主反射光束是主測量光束的反射光，所述次反射光束是次測量光束的反射光；
提供接收反射光束的光接收器；
將光發(fā)射器和反射器布置為使得測量光束的光軸和反射光束的光軸相交；
在同一個測量平面內(nèi)形成測量光束和反射光束；
將被測物體置于測量平面內(nèi)的測量區(qū)中，主測量光束和次反射光束在該測量區(qū)中交疊；
根據(jù)顯現(xiàn)在主反射光束中的被測物體的陰影測量被測物體的主方向上的外形尺寸；和
根據(jù)顯現(xiàn)在次反射光束中的被測物體的陰影測量被測物體的次方向上的外形尺寸。
2.一種用于測量被測物體的外形尺寸的光學測量裝置，該裝置包括：
配置為發(fā)射由平行光束構成的帶狀測量光束的光發(fā)射器，該測量光束至少包括主測量光束和次測量光束；
配置為反射測量光束并形成反射光束的反射器，該反射光束至少包括主反射光束和次反射光束，所述主反射光束是主測量光束的反射光，所述次反射光束是次測量光束的反射光，其中，所述光發(fā)射器和所述反射器布置為使得：
測量光束的光軸和反射光束的光軸相交，和
測量光束和反射光束形成在同一個測量平面內(nèi)；
配置為接收反射光束的光接收器；和
測量區(qū)，主測量光束和次反射光束在測量平面內(nèi)在該測量區(qū)中交疊，該測量區(qū)配置為接受被測物體。
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