[發(fā)明專利]成像設(shè)備、定影裝置和控制成像設(shè)備的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610826793.1 | 申請(qǐng)日: | 2016-09-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106842861B | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 內(nèi)田教夫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 兄弟工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03G15/20 | 分類號(hào): | G03G15/20 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 黃剛;車文 |
| 地址: | 日本愛知*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像 設(shè)備 定影 裝置 控制 方法 | ||
1.一種成像設(shè)備,包括:
外殼,所述外殼包括風(fēng)扇和壁部,所述壁部形成與所述風(fēng)扇連通的空氣通道;和
定影裝置,所述定影裝置包括:
加熱單元,所述加熱單元被設(shè)置在所述空氣通道中,并且所述加熱單元在軸向方向上延伸,所述加熱單元包括加熱器,所述加熱單元具有在所述軸向方向上的中央?yún)^(qū)域和位于所述中央?yún)^(qū)域的在所述軸向方向上的外側(cè)的端區(qū)域;
對(duì)立部件,所述對(duì)立部件被設(shè)置成在與所述軸向方向垂直的方向上面對(duì)所述加熱單元;和
蓋,所述蓋位于所述空氣通道中且位于在所述加熱單元和所述壁部之間的位置處,所述蓋包括:
中央蓋部,所述中央蓋部被定位成面對(duì)所述中央?yún)^(qū)域,并且所述中央蓋部與所述中央?yún)^(qū)域隔開基準(zhǔn)距離;和
側(cè)蓋部,所述側(cè)蓋部被定位成面對(duì)所述端區(qū)域,并且所述側(cè)蓋部能夠在第一位置和第二位置之間移動(dòng),所述第一位置提供距所述加熱單元的第一距離,所述第二位置提供距所述加熱單元的第二距離,所述第一距離等于或小于所述基準(zhǔn)距離,并且所述第二距離大于所述基準(zhǔn)距離,
其中所述成像設(shè)備進(jìn)一步包括:
驅(qū)動(dòng)源;
支撐部件,所述支撐部件被構(gòu)造成由所述驅(qū)動(dòng)源可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng),并且所述支撐部件支撐所述側(cè)蓋部,所述支撐部件被構(gòu)造成被旋轉(zhuǎn)到第一旋轉(zhuǎn)位置,以將所述側(cè)蓋部維持在所述第一位置處,并且所述支撐部件被構(gòu)造成被旋轉(zhuǎn)到與所述第一旋轉(zhuǎn)位置不同的第二旋轉(zhuǎn)位置,以將所述側(cè)蓋部維持在所述第二位置處;和
壓力改變機(jī)構(gòu),所述壓力改變機(jī)構(gòu)被構(gòu)造成隨著所述支撐部件的旋轉(zhuǎn)而改變?cè)谒黾訜釂卧退鰧?duì)立部件之間的擠壓力,
其中所述壓力改變機(jī)構(gòu)包括移位部件,所述移位部件被構(gòu)造成選擇性地提供第一姿態(tài)和第二姿態(tài),在所述第一姿態(tài),所述擠壓力處于第一擠壓力,在所述第二姿態(tài),所述擠壓力處于比所述第一擠壓力小的第二擠壓力;
其中所述支撐部件被構(gòu)造成:當(dāng)所述支撐部件被旋轉(zhuǎn)到與所述第一旋轉(zhuǎn)位置及所述第二旋轉(zhuǎn)位置不同的第三旋轉(zhuǎn)位置時(shí),所述支撐部件將所述移位部件從所述第一姿態(tài)改變到所述第二姿態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備,進(jìn)一步包括:
軸,所述軸在所述軸向方向上延伸,并且所述軸具有軸線;
其中所述支撐部件被固定到所述軸;
其中所述驅(qū)動(dòng)源被構(gòu)造成驅(qū)動(dòng)所述軸繞所述軸線的旋轉(zhuǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的成像設(shè)備,其中所述支撐部件包括與所述側(cè)蓋部接觸的凸輪。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的成像設(shè)備,進(jìn)一步包括推壓部件,所述推壓部件被構(gòu)造成朝向所述支撐部件推壓所述側(cè)蓋部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的成像設(shè)備,其中所述端區(qū)域包括第一端區(qū)域和相對(duì)于所述中央?yún)^(qū)域與所述第一端區(qū)域相反的第二端區(qū)域;
其中所述側(cè)蓋部包括:
第一側(cè)蓋部,所述第一側(cè)蓋部面對(duì)所述第一端區(qū)域;
第二側(cè)蓋部,所述第二側(cè)蓋部面對(duì)所述第二端區(qū)域;和
聯(lián)接部,所述聯(lián)接部連接所述第一側(cè)蓋部和所述第二側(cè)蓋部,所述支撐部件支撐所述第一側(cè)蓋部和所述第二側(cè)蓋部中的至少一個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的成像設(shè)備,進(jìn)一步包括肋,所述肋從所述中央蓋部的在所述軸向方向上的端部朝向所述加熱單元突出。
7.一種用于抑制定影裝置的軸向端區(qū)域的溫度增加的方法,所述定影裝置位于成像設(shè)備中,所述成像設(shè)備具有風(fēng)扇和壁部,所述壁部構(gòu)成與所述風(fēng)扇連通的空氣通道;
所述定影裝置包括加熱單元、對(duì)立部件和蓋,所述加熱單元被設(shè)置在所述空氣通道中,并且所述加熱單元在軸向方向上延伸,所述加熱單元包括加熱器,并且所述加熱單元具有在所述軸向方向上的中央?yún)^(qū)域和位于所述中央?yún)^(qū)域的在所述軸向方向上的外側(cè)的端區(qū)域,所述對(duì)立部件被設(shè)置成在與所述軸向方向垂直的方向上面對(duì)所述加熱單元;并且所述蓋位于所述空氣通道中且位于在所述加熱單元和所述壁部之間的位置處,所述蓋包括中央蓋部和側(cè)蓋部,所述中央蓋部被定位成面對(duì)所述中央?yún)^(qū)域,并且所述中央蓋部與所述中央?yún)^(qū)域隔開基準(zhǔn)距離,所述側(cè)蓋部被定位成面對(duì)所述端區(qū)域;
所述方法包括將所述側(cè)蓋部從第一位置移動(dòng)到第二位置,所述第一位置提供距所述加熱單元的第一距離,所述第二位置提供距所述加熱單元的第二距離,所述第一距離等于或小于所述基準(zhǔn)距離,并且所述第二距離大于所述基準(zhǔn)距離,
其中所述成像設(shè)備進(jìn)一步包括:
驅(qū)動(dòng)源;
支撐部件,所述支撐部件被構(gòu)造成由所述驅(qū)動(dòng)源可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng),并且所述支撐部件支撐所述側(cè)蓋部,所述支撐部件被構(gòu)造成被旋轉(zhuǎn)到第一旋轉(zhuǎn)位置,以將所述側(cè)蓋部維持在所述第一位置處,并且所述支撐部件被構(gòu)造成被旋轉(zhuǎn)到與所述第一旋轉(zhuǎn)位置不同的第二旋轉(zhuǎn)位置,以將所述側(cè)蓋部維持在所述第二位置處;和
壓力改變機(jī)構(gòu),所述壓力改變機(jī)構(gòu)被構(gòu)造成隨著所述支撐部件的旋轉(zhuǎn)而改變?cè)谒黾訜釂卧退鰧?duì)立部件之間的擠壓力,
其中所述壓力改變機(jī)構(gòu)包括移位部件,所述移位部件被構(gòu)造成選擇性地提供第一姿態(tài)和第二姿態(tài),在所述第一姿態(tài),所述擠壓力處于第一擠壓力,在所述第二姿態(tài),所述擠壓力處于比所述第一擠壓力小的第二擠壓力;
其中所述支撐部件被構(gòu)造成:當(dāng)所述支撐部件被旋轉(zhuǎn)到與所述第一旋轉(zhuǎn)位置及所述第二旋轉(zhuǎn)位置不同的第三旋轉(zhuǎn)位置時(shí),所述支撐部件將所述移位部件從所述第一姿態(tài)改變到所述第二姿態(tài)。
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G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
G03G15-00 應(yīng)用電荷圖形的電記錄工藝的設(shè)備
G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進(jìn)行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
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