[發(fā)明專利]陣列基板制造方法有效

申請(qǐng)?zhí)枺?/td>	201610709383.9	申請(qǐng)日：	2016-08-23
公開（公告）號(hào)：	CN106292198B	公開（公告）日：	2018-09-14
發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：	豆婷;李強(qiáng)	申請(qǐng)（專利權(quán)）人：	深圳市華星光電技術(shù)有限公司
主分類號(hào)：	G03F7/20	分類號(hào)：	G03F7/20
代理公司：	廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202	代理人：	郝傳鑫;熊永強(qiáng)
地址：	518132 廣東***	國省代碼：	廣東;44
權(quán)利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	陣列制造方法
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專利分類

G 物理

G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備

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