[發(fā)明專利]通過浸入式光刻機(jī)進(jìn)行光刻的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610555452.5 | 申請(qǐng)日: | 2016-07-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105974749A | 公開(公告)日: | 2016-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂耀安 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 無錫宏納科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 無錫華源專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32228 | 代理人: | 聶漢欽 |
| 地址: | 214000 江蘇省無錫市新區(qū)清源路*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 通過 浸入 光刻 進(jìn)行 方法 | ||
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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