[發明專利]背板上折彎模具在審
| 申請號: | 201610269328.2 | 申請日: | 2016-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN105728571A | 公開(公告)日: | 2016-07-06 |
| 發明(設計)人: | 唐彬 | 申請(專利權)人: | 昆山電子羽電業制品有限公司 |
| 主分類號: | B21D37/12 | 分類號: | B21D37/12 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 張海英;林波 |
| 地址: | 215324 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 背板 折彎 模具 | ||
技術領域
本發明涉及背板模具技術領域,尤其涉及一種背板上折彎模具。
背景技術
電化學在背板工件的加工過程中,往往需要進行內扣的上折彎處理,目前加工這種內扣上折彎的背板工件的沖壓設備一般都通過一種上下?;瑝K裝置來對其進行加工,通過分別設置在上模和下模上的帶有相配斜面的滑塊和頂塊,來達到沖壓成型并順利脫模的目的,但是這種結構形式的缺點是:滑塊和頂塊分別位于上下模上,這樣在二者接觸的瞬間,沖擊力較大,可能會影響到加工精度,其生產穩定性差,需要進行模具修理的次數較多,當大批量生產時,往往會因為修模而延誤生產進程;而且由于需要承擔較大的沖擊力,滑塊、頂塊的體積也需要相應增大,這樣就使得產品的加工成本較高。
發明內容
本發明的目的是提出一種背板上折彎模具,解決現有的背板上折彎模具造成的加工精度低,生產穩定性差,加工成本高的問題。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
一種背板上折彎模具,包括上模組件和下模組件,所述上模組件和下模組件之間設置有上折彎機構,所述上折彎機構包括設置在上模組件上的折彎沖頭和設置在下模組件上的入子,當上模組件與下模組件閉合時,所述折彎沖頭與入子之間形成用于實現產品上折彎成型的角度折彎間隙。
作為一種背板上折彎模具的優選方案,所述上模組件包括上模座和上模板,所述下模組件包括下模板和下模座,所述折彎沖頭設置在上模板上,所述入子設置在下模板上。
作為一種背板上折彎模具的優選方案,所述折彎沖頭的沖壓端外側設置有圓弧倒角。
作為一種背板上折彎模具的優選方案,所述下模板上設置有定位沖。
作為一種背板上折彎模具的優選方案,所述上模組件與下模組件之間設置有彈性定位裝置。
作為一種背板上折彎模具的優選方案,所述彈性定位裝置包括定位銷和對應的定位孔,定位孔設置在上模板的底部,定位銷穿過下模板,定位銷的底部設置有支撐彈簧,支撐彈簧的底面抵觸下模座,定位銷的下部往上擠壓下模板。
作為一種背板上折彎模具的優選方案,所述定位孔底部設置有緩沖彈簧。
作為一種背板上折彎模具的優選方案,所述上模板和上模座之間以及所述下模板和下模座之間均設置有壓簧。
作為一種背板上折彎模具的優選方案,所述上模組件和下模組件之間設有導向機構。
作為一種背板上折彎模具的優選方案,所述導向機構包括設置在上模組件上的導柱和設置在下模組件上的導向槽,所述導柱上設置有減震彈簧,所述導向槽與導柱相匹配。
本發明的有益效果為:
本發明提出一種背板上折彎模具,該背板上折彎模具的上膜組件和下模組件之間設置有上折彎機構,當上模組件和下模組件閉合時,通過上折彎機構的折彎沖頭與入子之間形成的角度折彎間隙,實現產品的上折彎成型。本發明有效解決現有的背板上折彎模具造成的加工精度低,生產穩定性差,加工成本高的問題,可通過更換不同的入子調整入子與折彎沖頭之間的角度折彎間隙,滿足不同要求上折彎角度的加工成型,操作方便,加工精度高,便于維修,加工成本低。
附圖說明
圖1是本發明實施方式提供的背板上折彎模具開模狀態時的結構示意圖;
圖2是本發明實施方式提供的背板上折彎模具閉合狀態時的結構示意圖;
圖3是圖2中A處的局部放大圖。
圖中:
1、上托板;2、上模座;3、上墊板;4、上模板;5、下模板;6、下墊板;7、下模座;8、下托板;9、折彎沖頭;10、入子;11、角度折彎間隙;12、定位沖;13、定位銷;14、支撐彈簧;15、壓簧;16、導柱;17、導向槽;91、圓弧倒角。
具體實施方式
為使本發明解決的技術問題、采用的技術方案和達到的技術效果更加清楚,下面將結合附圖對本發明實施方式的技術方案作進一步的詳細描述,顯然,所描述的實施方式僅僅是本發明一部分實施方式,而不是全部的實施方式。基于本發明中的實施方式,本領域技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施方式,都屬于本發明保護的范圍。
在本發明的描述中,需要理解的是,術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系,僅是為了便于描述本發明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作,因此不能理解為對本發明保護范圍的限制。
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