[發(fā)明專利]一種弧形等距縫隙的核桃去皮機(jī)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610183123.2 | 申請日: | 2016-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN105661570A | 公開(公告)日: | 2016-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊衛(wèi)國 | 申請(專利權(quán))人: | 長葛市吉慶機(jī)械廠 |
| 主分類號: | A23N5/08 | 分類號: | A23N5/08 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 461500 河南省許昌*** | 國省代碼: | 河南;41 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 弧形 等距 縫隙 核桃 去皮 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及核桃去皮機(jī)。
背景技術(shù)
在收獲核桃時,需要將核桃外面的一層綠色的皮去掉,可以使用核桃去皮機(jī),核桃去皮機(jī)具有進(jìn)入口、去皮室和出料口,去皮室具有兩個去皮板,分別是前面的定去皮板和后面的動去皮板;現(xiàn)有技術(shù)中,定去皮板是平板的板型結(jié)構(gòu),后面的動去皮板也是一個平面的圓盤結(jié)構(gòu),這樣的核桃去皮機(jī)具有核桃進(jìn)入去皮室效果差的缺點,還具有去皮效果差的缺點。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是針對上述缺點,提供一種核桃容易進(jìn)入去皮室、去皮效果好的核桃去皮機(jī)——一種弧形等距縫隙的核桃去皮機(jī)。
本發(fā)明的技術(shù)方案這樣實現(xiàn)的:一種弧形等距縫隙的核桃去皮機(jī),包括核桃去皮機(jī)本體,核桃去皮機(jī)本體具有機(jī)架,所述的核桃去皮機(jī)本體具有進(jìn)入口、去皮室和出料口,去皮室具有兩個去皮板,分別是前面的定去皮板和后面的動去皮板,動去皮板連接旋轉(zhuǎn)的動力裝置,其特征是:所述的定去皮板是圓弧形結(jié)構(gòu),圓弧面朝前,弧形所在的圓周是水平的;所述的動去皮板是球冠形結(jié)構(gòu),動去皮板水平中心部位前面和定去皮板形成寬度相等的縫隙。
進(jìn)一步地講,所述的定去皮板和動去皮板具有凸起,定去皮板下面的凸起和動去皮板下面凸起形成等距離的結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的有益效果是:這樣的核桃去皮機(jī)具有核桃容易進(jìn)入、去皮效果好的優(yōu)點;所述的定去皮板和動去皮板具有凸起,定去皮板下面的凸起和動去皮板下面凸起形成等距離的結(jié)構(gòu),還具有去皮效果更好的優(yōu)點。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是圖1中的A—A剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是圖1中的B—B剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
其中:1、機(jī)架2、進(jìn)入口3、去皮室4、出料口5、定去皮板6、動去皮板7、動力裝置8、縫隙9、凸起。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步的描述。
如圖1、2所示,一種弧形等距縫隙的核桃去皮機(jī),包括核桃去皮機(jī)本體,核桃去皮機(jī)本體具有機(jī)架1,所述的核桃去皮機(jī)本體具有進(jìn)入口2、去皮室3和出料口4,去皮室具有兩個去皮板,分別是前面的定去皮板5和后面的動去皮板6,動去皮板連接旋轉(zhuǎn)的動力裝置7,其特征是:所述的定去皮板是圓弧形結(jié)構(gòu),圓弧面朝前,弧形所在的圓周是水平的;所述的動去皮板是球冠形結(jié)構(gòu),動去皮板水平中心部位前面和定去皮板形成寬度相等的縫隙8,圖2中的縫隙上面、中間、下面都相等。
本發(fā)明由于定去皮板5動去皮板6接近進(jìn)入口部分具有較寬的縫隙,核桃容易進(jìn)入去皮室;另外在動去皮板水平中心部位前面和定去皮板形成寬度相等的縫隙,減少了核桃遺漏的現(xiàn)象,具有去皮效果好的優(yōu)點。
進(jìn)一步地講,如圖1、2、3所示,所述的定去皮板和動去皮板具有凸起9,定去皮板下面的凸起和動去皮板下面凸起形成等距離的結(jié)構(gòu),圖1中兩個9處的間隙相等,即定去皮板下面的凸起具有較長的結(jié)構(gòu)。圖3中的縫隙上面、中間、下面都相等,這樣可以對沒有去掉皮的核桃進(jìn)一步處理,去皮效果更好。
以上所述僅為本發(fā)明的具體實施例,但本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特征并不限于此,任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明的領(lǐng)域內(nèi),所作的變化或修飾皆涵蓋在本發(fā)明的專利范圍內(nèi)。
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