技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種柔性導(dǎo)電膜及包含該柔性導(dǎo)電膜的光學(xué)器件。

背景技術(shù)

透明導(dǎo)電膜是一種具備導(dǎo)電功能的薄膜，因其具有重量輕、可變形、不易碎等優(yōu)點而廣泛應(yīng)用于液晶顯示器、太陽能電池、微電子、ITO導(dǎo)電膜玻璃、光電子和各種光學(xué)領(lǐng)域中，透明導(dǎo)電膜是業(yè)界所研究的重點。

現(xiàn)有技術(shù)中，制備納米銀線導(dǎo)電膜，通常需要重復(fù)浸泡納米銀線、熱壓過程等步驟，工藝較繁瑣，且每次重復(fù)操作之后，其結(jié)合面均會形成一個光學(xué)界面，累加起來，會在很大程度上降低導(dǎo)電膜的光透過率。中國專利文獻CN102214499，即公開了一種透明導(dǎo)電膜的制作方法，步驟包括：涂布親水性透明樹脂于軟性透明基材上，干燥親水性透明樹脂，浸泡干燥后的親水性透明樹脂于納米銀線的分散液中，熱壓親水性透明樹脂，讓納米銀線進入親水性透明樹脂中，并重復(fù)該浸泡與熱壓步驟數(shù)次，采用該種方法制作出的導(dǎo)電膜，光透過率低。

現(xiàn)有技術(shù)中還有另外一種方法，是涂敷納米銀線漿料于PET基材上，這種方法制成的透明導(dǎo)電膜，缺乏表面保護，納米銀線層易脫落，且透明導(dǎo)電膜表面容易被刮傷，現(xiàn)有納米銀線導(dǎo)電膜的基材是類似于ITO導(dǎo)電膜的硬化薄膜，即在硬化薄膜之上涂布納米銀線，再烘干，此種方法與ITO濺射不同，但是選用基材類似，所以存在光透過率低、霧度高、附著力低、柔性差、厚度厚、生產(chǎn)效率低等一系列問題。

如上，現(xiàn)有技術(shù)制備銀納米線導(dǎo)電膜，通過涂敷銀納米線在硬化膜基材 上的方式，此種工藝需要選擇很好的硬化膜基材，因而增加了厚度，生產(chǎn)工藝也相對繁瑣，成本亦增加，且不可實現(xiàn)柔性，不利于整體柔性導(dǎo)電膜性能的提高。

因此，業(yè)界亟需一種厚度薄、柔性好、且具有光透過率高、霧度低、附著力高等優(yōu)點的柔性導(dǎo)電膜及應(yīng)用該柔性導(dǎo)電膜的光學(xué)器件。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提出了一種柔性導(dǎo)電膜、其制備方法以及具有該柔性導(dǎo)電膜的觸摸屏，該柔性導(dǎo)電膜具有導(dǎo)電納米金屬絲硬化膜的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可起到良好的保護導(dǎo)電膜不易斷裂的作用，實現(xiàn)大幅度向內(nèi)或兩邊彎曲甚至折疊，且該柔性導(dǎo)電膜具有耐刮、耐劃、整體厚度較于同等基材制備的導(dǎo)電膜厚度較薄的優(yōu)點。

根據(jù)本發(fā)明的目的提出的一種柔性導(dǎo)電膜，包括柔性支撐基材層及柔性導(dǎo)電層，所述柔性導(dǎo)電層設(shè)置于所述柔性支撐基材層的至少一側(cè)的表面上。

優(yōu)選的，還包括柔性載體基材層，所述柔性載體基材層設(shè)置于所述柔性支撐基材層的遠離所述柔性導(dǎo)電層的一側(cè)表面上，所述柔性導(dǎo)電層、柔性支撐基材層及柔性載體基材層依次層疊。

優(yōu)選的，所述柔性導(dǎo)電層設(shè)置于所述柔性支撐基材層的兩側(cè)表面上。

優(yōu)選的，所述柔性支撐基材層的材料選用聚酰亞胺。

優(yōu)選的，所述柔性載體基材層的材料選用聚對苯二甲酸乙二酯。

優(yōu)選的，所述柔性支撐基材層通過卷對卷工藝制備而成，所述柔性載體基材層作為所述柔性支撐基材層制備過程中的載體。

優(yōu)選的，所述柔性導(dǎo)電層，通過磁控濺射法沉積ITO導(dǎo)電膜，或通過化 學(xué)氣相沉積的方式沉積石墨烯、或噴涂納米銀線、或在涂布液中分散導(dǎo)電納米銀線的方式在柔性支撐基材層上形成。

優(yōu)選的，所述柔性載體基材層的厚度為50μm-125μm。

優(yōu)選的，所述柔性支撐基材層的厚度為5μm-50μm。

本發(fā)明還提出一種光電器件，包含柔性導(dǎo)電膜，所述柔性導(dǎo)電膜為上述的柔性導(dǎo)電膜。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的技術(shù)優(yōu)勢：

具備柔性導(dǎo)電層、柔性支撐基材層及柔性載體基材層，實現(xiàn)柔性基材與柔性導(dǎo)電層功能的集成，改善了柔性導(dǎo)電膜的柔性，即可彎曲折疊性。

柔性載體基材層作為中間層柔性支撐基材層制備過程中的載體，在卷對卷制備工藝中，對中間層柔性支撐基材層起到支撐作用，且柔性載體基材層的材料選用聚對苯二甲酸乙二酯，柔性支撐基材層的材料選用聚酰亞胺，通過選用合適的材料，并通過卷對卷工藝，制備得到的柔性支撐基材層更薄且柔性更佳。

可以將納米銀線均勻分散在柔性支撐基材層表面以制備柔性導(dǎo)電層，在工藝上實現(xiàn)簡化，且柔性導(dǎo)電膜整體實現(xiàn)了減薄，提高了光透過率，且降低了霧度；或者將納米銀線均勻分散于涂布液中后再涂布于柔性支撐基材層的表面，提高了柔性支撐基材層的附著力，避免了納米銀線脫落及表面被刮傷等問題，改善了柔性導(dǎo)電膜的質(zhì)量。

附圖說明